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实用标准
第一章半导体中的电子状态
例 1. 证明 : 对于能带中的电子, K 状态和 -K 状态的电子速度大小相
等 , 方向相反。即: v(k)= -v( -k) ,并解释为什么无外场时,晶体
总电流等于零。
解: K状态电子的速度为:
(1)
同理,- K 状态电子的速度则为:
(2 )
从一维情况容易看出:
(3 )
同理
有:
(4)
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(5)
将式( 3)(4 )(5)代入式( 2 )后得:
(6 )
利用( 1)式即得: v( -k)= -v(k) 因为电子占据某个状态的几率只
同该状态的能量有关,即: E(k)=E( -k) 故电子占有 k 状态和 -k 状态
的几率相同,且 v(k)= -v( -k) 故这两个状态上的电子电流相互抵消,
晶体中总电流为零。
例 2. 已知一维晶体的电子能带可写成:
式中, a 为晶格常数。试求:
(1)能带的宽度;
(2)能带底部和顶部电子的有效质量。
解:( 1)由 E(k) 关
系
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(
1)
(2 )
令 得:
当 时,代入( 2 )得:
对应 E(k) 的极小值。
当 时,代入( 2 )得:
对应 E(k) 的极大值。
根据上述结果,求得 和 即可求得能带宽度。
故:能带宽度
(3)能带底部和顶部电子的有效质量:
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习题与思考题:
1 什么叫本征激发?温度越高, 本征激发的载流子越多, 为什么?试
定性说明之。
2 试定性说明 Ge、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。
3 试指出空穴的主要特征。
4 简述 Ge、Si 和 GaAs的能带结构的主要特征。
5 某一维晶体的电子能带为
其中 E0=3eV,晶格常数 a=5 ×10-11m。求:
(1)能带宽度;
(2 )能带底和能带顶的有效质量。
6 原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不
同?原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同?
7 晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?
8 描述半导体中电子运动为什么要引入 “有效质量”的概念?用电子
的惯性质量 描述能带中电子运动有何局限性?
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9 一般来说,对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此?为
什么?
10 有效质量对能带的宽度有什么影响?有人说:“有效质量愈大,
能量密度也愈大,因而能带愈窄。”是否如此?为什么?
11 简述有效质量与能带结构的关系?
12 对于自由电子,加速反向与外力作用反向一致,这个结论是否适
用于布洛赫电子?
13 从能带底到能带顶,晶体中电子的有效质量将如何变化?外场对
电子的作用效果有什么不同?
14 试述在周期性势场中运动的电子具有哪些一般属性?以硅的本征
激发为例,说明半导体能带图的物理意义及其与硅晶格结构的联系?
15 为什么电子从其价键上挣脱出来所需的最小能量就是半导
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