二维正交全息光子晶体模板的制作和特性研究.docVIP

云南大学学报（自然科学版），2010，32（S1）：233 237 Journal of Yunnan University CN 53－1045/NISSN 0258－7971 二维正交全息光子晶体模板的制作和特性研究 12王本菊，蒲利春 （1．攀枝花学院材料工程系，四川攀枝花617000；2．重庆理工大学光电信息学院，重庆400054） 摘要：多光束全息曝光法制作周期性结构已有广泛应用，在已有报道中，主要采用四束以上光束同时曝光 法制作光子晶体模板．文章以全息干板制作光子晶体模板为研究目标，提出了用双光束多次暴光法制作光子晶 体模板．用一种折射率与玻璃基底折射率相匹配的粘合剂消除反射光对干涉图样的干扰，在实验室制备了二维 观察了光子晶体模板之反射光和透射光的衍射图像，分析了它正交全息光子晶体模板．用激光束作入射光源， 的光学特性．探索了双光束多次暴光制作光子晶体模板的方法和制造技术． 关键词：光子晶体；光子晶体模板；激光全息技术；双光束干涉 中图分类号：TN 256文献标识码：A 文章编号：0258－7971（2010）S1－0233－05 光子晶体是折射率在空间呈光波长数量级且周期变化的介电结构，被科学界和产业界称为“光半导“未来的半导体”，体”或是未来信息技术的核心． ［2］和John 提出光子晶体的概念以来，光子晶体引起了各国政府、学术机构以及高新 技术产业界的高度重视．美国、英国、欧共体和日本等纷纷投入巨资研究光子晶体，并开发它的应用．光子自Yablonovitch ［1］ 《Science 》晶体还是杂志在1998年底预计未来的六大研究热点之一．激光全息术制作光子晶体分2步完成，一是利用激光全息刻写技术制作全息光子晶体模板，二是在全息光子晶体模板上填充高折射率的介电材料，通过反转技术制作具有光子禁带的光子晶体．全息光子晶体模板研究、制作是光子晶体制作的核心，它主要考虑相干光的入射方向、波矢方向、偏振态、初相位、光束之间的夹角、光强比和介质折射率变化等 是制备光子晶体的很有前途的方法之一，目前，多光束全息曝光法制参量对光子晶体的晶格结构影响， 但在已有的研究报道中，主要采用4束以上光束即多光束同时曝光法制作光作周期性结构已有广泛应用， 子晶体模板［4－6］［3］．文章选用全息光栅的制作方法，针对光子晶体的晶格结构，以全息干板制作光子晶体模板为研究对象，提出了用双光束多次暴光法制作光子晶体模板．用碳水化合物油把全息干板中没有药膜的面和一块斜劈形厚的玻璃砖粘合起来，消除反射光对干涉图样的干扰，在实验室制备了二维正交全息光子晶体模板．用激光束作入射光源，观察了光子晶体模板之反射光和透射光的衍射图像，分析了它的光学特性． 1 1．1光子晶体模板制作的理论基础和结构分析激光全息记录法实现光子晶体模板的理论基础当几束相干光叠加时，相干区域会形成类似晶格结构的干涉图案，置于干涉场中的记录介质由于感光程度不同，使折射率产生周期性变化，形成光子晶体，其晶格结构由相干光的光学参数、入射方向和介质折射率共同确定，简述如下． 设N 束相干光相干区域的电场分量为 N －1 E 0（r ）=E on e ∑n =0i k n ·r ，（1） *收稿日期：2010－07－01 作者简介：王本菊（1964－），女，副教授，主要从事大学物理教学及其研究． 234云南大学学报（自然科学版）第32卷 （1）式中，k n 为波矢，r 为位置矢量．电磁波在线性均匀介质中某一时刻代表第n 束光的振幅和偏振方向， 的平均光强为 N －1 I （r ）∝E on ·E om e ∑n ，m =1i （k n －km ）·r ， i （k n －km ）·r （2）（2）式可知，干涉图案的平移对称性由傅里叶分量E om ·E om e 确定，即晶格格点和晶格结构的平移 对称性分别由傅里叶分量系数E on ·E om 和波矢差（k n －k m ）确定．如果确定了相干光的入射方向和他们之间的夹角，并使得波矢差（k n －k m ）满足设计制作的晶体倒格矢条件，干涉图样的光强极大点就是晶格格点，即得到激光全息记录法制作的光子晶体模板． 1．2二维光子晶体模板结构分析根据1．1分析，为了简化制作过程，突出制作方法，降低制作难度．文 “全息光栅”章设计双光束2次曝光法制作二维正交全息光子晶体模板．第1次曝光设计，按图1拍摄的制 ［7］作方法曝光；第2次曝光设计，保持全息干板在原位置竖立方向不变，让它在竖直面内绕y 轴转动90? 角（图2），重复第1次曝光过程，完成第2次曝光．注意：前后2次曝光仅是全息干板绕定轴转动，不改变图1中其它光学仪器的位置．图3是二维正交光子晶体模板模拟图，其结构分析如下． ）和物光（图3中经M 1的透全息光栅的制作要求参考光（图1中经M 1的反射