羟基的保护基.pptVIP

羟基的保护基 ? 1). 酯类保护基 ? t -BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH 2 CO et al. 90% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis , 1986 , 453 OH OH HO PivCl (1eq) Py-CH 2 Cl 2 0-25 o C OH HO O O ? 酯类保护基的除去 (cleavage) 碱性条件下水解， 水解能力： t -BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH 2 CO 常用的碱： K 2 CO 3 , NH 3 , NH 2 NH 2 , Et 3 N, i -Pr 2 NEt et al 去除 Piv 一般用较强的强碱体系，如 KOH/H 2 O, LiAlH 4 , DIBAL, KBHEt 3 OTBDMS TBDMSO O O OTBDMS TBDMSO OH DIBAL(2.5eq) CH 2 Cl 2 , -78 o C 95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis , 1986 , 453 ClCH 2 CO 的去除可以用硫脲，氨 / 甲醇，苯，吡啶水溶液， NH 2 CH 2 CH 2 SH, NH 2 CH 2 CH 2 NH 2 , PhNHCH 2 CH 2 NH 2 等除去。 O O OBn O AcHN OBn OBn OBn O Cl AcO OBn O O O OBn O AcHN OBn OBn OBn HO AcO OBn NH 2 NH 2 (15eq) HOAc-HOMe rt, 12 h 74% Cook, A. F.; Maichuk, D. T. J. Org. Chem. , 1970 , 35 , 1940. 2). 硅醚保护基 硅醚保护基主要有： Me 3 Si (trimethylsilyl, TMS); Et 3 Si (triethylsilyl, TES); t -BuMe 2 Si ( tert -butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS) i -Pr 3 Si (triisopropylsilyl, TIPS) t -BuPh 2 Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS) 酸水解相对稳定性 : TMS(1) TES(64) TBDMS(20,000) TIPS(700,000) TBDPS (5,000,000) 碱水解相对稳定性 : TMS(1) TES(50) TBDMS = TBDPS (20,000) TIPS(100,000) 硅醚保护基的除去： （ F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol ） 通常用 HF / CH 3 CN; TBAF / THF; HF.Py / CH 3 CN TES ether ： TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6- dimethylpyridine OH O H OTES O H TESOTf (1.1eq) Py, MeCN, -50 o C, 10 min. 79% Heathcook, C. H.; Young, S. D.; Hagen, J. P.; Pilli, R.; Badertscher, U. J. Org. Chem. , 1985 , 50 , 2095