《薄膜光学与技术》期末考试试题a-标准答案.docx

《薄膜光学与技术》期末考试试 题A-答案 作者: 日期: 2012-2013学年第1学期《薄膜光学与技术》期末考试试题（A卷） 参考答案及评分标准 一、填空题（每空1分，共24分） 1、 在折射率为3.5的基底表面镀单层减反射膜，对于4000nm的光波，理论上能 达到最佳减反射效果的薄膜折射率为： 1.8708 ，需要镀制的薄膜光学厚度 为 1000 nm。 2、 若薄膜的折射率为n，光线在薄膜内的折射角为 9,则s、p光的修正导纳分 别为 ncos9_、n/cos 9 。 3、 对于波长为入的光来说，单层膜的光学厚度每增加 辿 ，薄膜的反 射率就会出现一次极值变化。当薄膜的折射率小于基底折射率时，出现的第一个 反射率极值是 极小 （极大、极小）值。 4、 虚设层的形成条件是： 薄膜的光学厚度等于半波长的整数倍 。 5、 周期性对称膜系（pqp）s的等效折射率和 基本周期/pqp 的等效折射率完 全相同，其等效位相厚度等于 基本周期的s倍 。 6折射率为n1,光学厚度为入0/4,基底的折射率为ns,那么，该单层膜与基底 的组合导纳为：二二nf / ns 7、 介质高反射膜的波数宽度仅与两种膜料的 折射率 有关.折射率 差值越大， 咼反射带越宽。 8、 热偶真空规是通过测量温度达到间接测量 真空 的目的。 9、 镀膜室内真空度高表明气体压强—小—，真空度低则气体压强―大—。 10、 薄膜几何厚度的监控通常用 石英晶振 膜厚仪来实现，光学厚度常常采 用 光电 膜厚仪来监控。 11、 采用PVD技术制造薄膜器件时，薄膜折射率的误差主要来自三个方面：」 层的聚集密度 、 膜层的微观组织物理结构 、膜层的化学成分 。 12、 改善膜层厚度均匀性的措施包括 旋转夹具和膜层厚度调节板 。 13、 采用光电极值法监控膜厚，如果需要镀制光学厚度为 900nm的薄膜，在 500-700nm范围内，可以选取的监控波长为 600 和 514.3 nm。 二、辨析题：先回答以下说法是否正确？然后说明理由或修改正确。 （15分） 说明：以上各题判断正确1分，原因叙述正确或修改正确2分（对于正确的表述， 可以不说明原因）。叙述不完全的根据实际情况酌情给分。 2tt 1、 膜层的有效位相厚度表示为：：=—ndcosr，当光波斜入射时，对于s光和 p光而言，要分别代入修正后的折射率值进行运算。 答：错误。膜层的有效位相厚度表示为：：二一ndcosr，当光波斜入射时，无 论对于s光和p光而言，折射率值均是同一个值。 2、 介质高反射膜无论入射角下多大，其 s偏振和p偏振光所对应的带宽都是相 同的。 答：错误。介质高反射膜在垂直入射条件下，s偏振和p偏振光所对应的带宽都 是相同的；而在斜入射条件下，由于 s偏振和p偏振光的修正导纳不同，从而导 致其带宽也不同，此时，s偏振光所对应的带宽大于p偏振光所对应的带宽。 3、 测量镀膜样片的透射率时，将镀膜面向着光源和背对光源测得的结果相同。 答：正确。透射率测量与测量方向无关，无论膜层是否存在吸收。 he 4、 膜系G/M2HLHLHL/A中，低折射率膜层的几何厚度均为 —。 4 答：错误。膜系中，低折射率膜层的光学厚度均为 —，而不是几何厚度。 4 5、 PVD真空镀膜机的真空系统，一般需要一台扩散泵就可以完成抽气过程。 答：错误。要达到PVD镀膜的真空度，一般需要机械泵（低真空泵）和扩散泵 （高真空泵）组合抽气才能达到。 三、问答题（每题7分，共21分） TOC \o 1-5 \h \z 1、什么是单层介质膜层反射率的双重周期性？其周期性的主要特点有哪些 ？ 答：单层介质膜的反射率会随着薄膜位相厚度的变化而呈现周期性变化（ 2分）; 当膜厚确定后，随着光波波长的变化，反射率会随之发生周期性变化（ 2分）。 随厚度变化的周期呈现间隔相等， 而随波长变化的周期不等，波长越大，周期越长。如将波长转化为光波频率，则随频率不同，反射率的周期是等间隔的（1分） 说明：周期性每正确一点2分，特点回答正确1分。 2、在镀膜前与镀膜过程中，常常需要进行离子束轰击，在这两个过程中，离子 束辅助的作用是什么？ 答：镀膜前的离子轰击：用离子束轰击将要镀膜的零件表面（取代低真空离子轰 击），既起到清洗被镀表面、活化表面的作用，又压缩了离子轰击的时间，更重 要的是使离子轰击的作用得到了最大程度的发挥。 （2分） 镀中轰击：溅射突出岛，消除阴影效应，破坏柱状结构，形成均匀填充生长（ 2 分）；膜层受到轰击获得能量，可以产生级联碰撞，增加原子 /分子的迁移率，有 利于致密成膜（2分）；晶格振动加剧，形成局部热峰，产生淬火效应。 （1分） 3、极值法监控膜厚有哪些技巧，请简要说明。 答：主要有3种方法：过正控制，选用比由nd=4确定的波长