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纸
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用
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专
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案
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答
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准
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标
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卷
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题
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试
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院
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学
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电
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邮
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安
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西
装
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第 页
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西安邮电学院 2011----2012
学年第 I
学期试题卷
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标准答案
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课程:数字集成电路设计
类型: A 卷 专业、年级: 电子信息科学与技术 0801-04
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题号
一
二
三
四
五
六
七
八
九
总分
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线
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得分
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一、填空题(共 20 分,每空 1
分)
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1. 静态互补 CMOS 电路的输出高电平为 VDD ,输出低电平为 GND ,输出电压
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摆幅等于电源电压。噪声容限很大。
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订
2.
扇入表示
门输入 的数目。增加一个门的扇入会影响
其动态和静态特性 。
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门的扇出定义为该门
连接到输出端的负载门
的数目。
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3 . NMOS 晶体管是由
栅端
、
源端、漏端
和衬底构成,电流是由通过
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源端
和 漏端
之间 n 型沟道的电子形成。
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4.
PMOS 晶体管截至区的工作条件为
VgsVtp
、电阻工作区条件为
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装
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Vds=max{Vds,Vdsat,Vgt} 、饱和区的工作条件为
Vgt=max{Vds,Vdsat,Vgt} 、
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Vdsat=max{Vds,Vdsat,Vgt}
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速度饱和区的工作条件为
。
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5.
CMOS 反相器的上升传输延时随着
PMOS 晶体管的宽长比增加而减小、下降
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传输延时随着 NMOS 的宽长比减小而增加;为使得
CMOS 反相器的传输延时
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封
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最小 PMOS 晶体管和 NMOS 晶体管宽长比的比例大约为
2.4。
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二、简答题(共 25 分,每题 5
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分)
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1 什么是沟道调制效应?说明它对
MOS 晶体管 IV 特性的影响。
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VDS 调制:增加 VDS 讲师漏结的耗尽区
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答:导电沟道的有效长度实际上有所加的
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加大,从而缩短有效沟道的长度。沟道调制效应会在饱和区的电压不能保持一
密
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个值,而是有小幅的上升。
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2 PDN 由 NMOS 器件构成, PUN 由 PMOS 器件构成,简述其理由。
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答: PDN 下拉网络都由 NMOS 器件构成, PUN 上拉网络都由 PMOS 器件构成,
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由于 NMOS 的强“ 0”弱“ 1”,PMOS 的强“ 1”弱“ 0”,PUN 与 PDN 网
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说明: 1。标准答案务必要正确无误。
络为对偶网络。
CMOS 反相器的输入从 0 上升到电源电压,分析在这个过程中各个 MOS 晶体管工作状态的变化、以及输出的变化,画出 CMOS 反相器的电压传输曲线。答:如图所示
Vout
NMOS off
5
PMOS res
.
2
NMOS sat
2
PMOS res
5
NMOS sat
1
PMOS sat
1
5
NMOS res
PMOS sat
NMOS res
.
0
PMOS off
0.5
1
1.5
2
2.5
Vin
简述导线的集总 RC 模型和分布 rc 线。说明两个模型的关系。
答:集总 RC 模型将整个导线用一个电容和电阻来代替;分布 rc 线是将导线的
每一段等效单位电容和单位电阻,分布 rc 线比较复杂,但是精度高。
5 简述静态 CMOS 电路的优缺点。
答:静态 CMOS 电路在电源的两条轨线之间电压的摆幅,即 VOH=VDD ,
VOL=GND 。由于上拉和下拉网络是互斥网络,因此电路
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