镀膜材料基础知识精选.pptVIP

镀膜材料基础知识 1:光学薄膜材料 薄膜的制镀,随着膜质要求的升高,各种制镀方法 已不断的被研究出来,而制镀后的测试亦随着制镀技术 的进步而有一再深入的探讨 制镀上所需要的材料关系着制镀后的成果.虽然可 陈列的材质相当的多,但真正能用在光学薄膜的欲非常 有限.这使我们在不同的光谱区需选不同的材料,对于 一般用途最重要的一点是起损耗必须小于10E3cm-1 下面对光学薄膜材料的特性及制镀应注意事项 说明 光学薄膜的基本要求 良好的介电质薄膜必须能满足以下几种条件: 透明度高,吸收小 稳定的折射率 推积密度高 散射小 均匀的材质 良好的机械附着力,硬度及应力 化学性稳定,受环境影响小 辐射能的承受量高 1.1.1:透明度 介电质材料及半导体材料的透明区决定于材料的价 电子能阶到导电子能阶的能量差△E及晶格振荡能的吸 收.前者决定了透明区的短波极限入s,波长小于入S的光 波会激发电子跃进而被吸收,此吸收又被成为基本吸 收.后者决定了透明区的长波极限λL,波长长与M的光 波会引起晶格振荡而被吸收,此吸收又被成为晶格振荡 吸收 对于真正的介电质材料而言,△E很大,λs于是落 在紫外光区,因此在可见以及红外光区是透明的,而有 些材料甚至在超紫外光区也是透明 对于半导体材料而言,△E较小,因此λs落在近红 外区或红外区内 般介电质材料在中红外区就出现长波晶格振荡吸 收,因此介电质材料的就发生在中红外区 由固体材料所得到的结论并不能立即应用在薄膜上, 原因是结构已经发生了变化,空隙及杂质的掺入,而有 些化合物蒸镀时发生分解而造成吸收,如硫化物,硒化 物薄膜,甚至部分氧化物及氟化物也是有如此的问题 透明度的降低可分为吸收和散射两种造成,这些吸 收及散射影响薄膜的光学特性且与能否承受高的辐射有 关.举例来说,干涉滤光片的透射率及雷射镜片的反射 率以及波导的传输距离受到薄膜是否吸收或散射的影响 很大 膜层中发生吸收损耗的原因很多,前述的能阶吸收, 晶格振荡吸收,自由载子吸收是主要原因,其他如杂质 的存在,膜层的晶态不完整,化合物有了分解等等都 是.可以预见的是,高折射率材质比低折射率材质有高 的吸收,原因是高折射率材质的λs会比其块状材料向长 波偏移 倘若原子量增大,离子性减少则会使λ移向长波区, 一般的红外材料的特性正式如此 半导体材料由于△E很小,自由载子浓度随温度上 升而增加,致使透明度下降,例如在室温时Ge在 10000nm的吸收为0.02cm-1,到了70℃就上升到012cm-1 100℃就到04cm-1 光学材料的透明区 90 80 60 40 30 20 2000 4000600080001000012000 前端为基本吸收区,中间为透明区(但若含有杂质及自 由流子则会有吸收而使透过率T降低).右端为晶格振荡 吸收区 1.1.2:折射率 薄膜的折射率决定于好几种因素: 与组成膜的化学元素有关 与构成膜的晶态有关 与成膜的晶粒大小及堆积密度有关 与膜的化学成分有关 (1):与组成膜的化学元素有关 折射率是价电子在电场中极化的表现.若元素外层 的电子容易被极化,则其∩必高, 所以对于单元素材料来说,原子量越大折射率越 高.例如:在4000m时,碳为238矽为34锗为3.4. 对于化合物材料来说,共价键者比离子键者有较高 的折射率,因为共价键化合物的离子性小易被极化