个人整的石墨烯.pptVIP

2021/3/14 * 石墨烯牛股群-中钢吉炭 2021/3/14 * 八、石墨烯实例 照片:单层石墨烯生长在铜箔表面 照片:石墨烯生长于4“硅片表面 基材为Ni/SiO2/Si 2021/3/14 * 石墨烯结果 SEM: 单层石墨烯在铜箔表面 Raman光谱:单层石墨烯 2021/3/14 * 四、制备方法 加热 SiC法 　　该法是通过加热单晶6H-SiC脱除Si,在单晶(0001) 面上分解出石墨烯片层。具体过程是:将经氧气或氢气刻蚀处理得到的样品在高真空下通过电子轰击加热,除去氧化物。用俄歇电子能谱确定表面的氧化物完全被移除后,将样品加热使之温度升高至1250~1450℃后恒温1min~20min,从而形成极薄的石墨层,经过几年的探索,Berger等人已经能可控地制备出单层或是多层石墨烯。其厚度由加热温度决定,制备大面积具有单一厚度的石墨烯比较困难。 2021/3/14 * 利用NTT物性科学基础研究所正在开发的SiC热分解法制作的 SiC基板上的石墨烯（右）,实际分布有1～多层的石墨烯 2021/3/14 * 四、制备方法 包信和等开发了一条以商品化碳化硅颗粒为原料,通过高温裂解规模制备高品质无支持（Free standing）石墨烯材料的新途径。通过对原料碳化硅粒子、裂解温度、速率以及气氛的控制,可以实现对石墨烯结构和尺寸的调控。这是一种非常新颖、对实现石墨烯的实际应用非常重要的制备方法。 2021/3/14 * 四、制备方法 化学解理法 化学解理法是将氧化石墨通过热还原的方法制备石墨烯的方法,氧化石墨层间的含氧官能团在一定温度下发生反应,迅速放出气体,使得氧化石墨层被还原的同时解理开,得到石墨烯。这是一种重要的制备石墨烯的方法,天津大学杨全红等用低温化学解理氧化石墨的方法制备了高质量的石墨烯。 2021/3/14 * 上图为高定向热解石墨（HOPG）,下图为从HOPG撕出来,置于厚度300 nm的 二氧化矽表面的石墨片烯。左下角浅色三角形为单层石墨片烯,其余为1 - 5层不等。 2021/3/14 * 四、制备方法 化学还原法 　 化学还原法是将氧化石墨与水以1 mg/mL的 比例混合, 用超声波振荡至溶液清晰无颗粒状物质,加入适量肼在1 0 0℃回流2 4 h ,产生黑色颗粒状沉淀,过滤、烘干即得石墨烯。Sasha Stankovich 等利用化学分散法制得厚度为1 nm左右的石墨烯。 2021/3/14 * 五、应用前景 在纳电子器件方面的应用 　　2005年,Geim研究组[3 J与Kim研究组H 发现,室温下石墨烯具有l0倍于商用硅片的高载流子迁移率(约10 am /V·s),并且受温度和掺杂效应的影响很小,表现出室温亚微米尺度的弹道传输特性(300 K下可达0．3 m),这是石墨烯作为纳电子器件最突出的优势,使电子工程领域极具吸引力的室温弹道场效应管成为可能。较大的费米速度和低接触电阻则有助于进一步减小器件开关时间,超高频率的操作响应特性是石墨烯基电子器件的另一显著优势。此外,石墨烯减小到纳米尺度甚至单个苯环同样保持很好的稳定性和电学性能,使探索单电子器件成为可能。 2021/3/14 * 贝尔实验室的Fulton等人制成的128Mbit石墨烯单电子存储器芯片照片 2021/3/14 * 五、应用前景: 代替硅生产超级计算机 　　科学家发现,石墨烯还是目前已知导电性能最出色的材料。石墨烯的这种特性尤其适合于高频电路。高频电路是现代电子工业的领头羊,一些电子设备,例如手机,由于工程师们正在设法将越来越多的信息填充在信号中,它们被要求使用越来越高的频率,然而手机的工作频率越高,热量也越高,于是,高频的提升便受到很大的限制。由于石墨烯的出现,高频提升的发展前景似乎变得无限广阔了。这使它在微电子领域也具有巨大的应用潜力。研究人员甚至将石墨烯看作是硅的替代品,能用来生产未来的超级计算机。 2021/3/14 * 超级计算机芯片-目前世上电阻率最小的材料,电阻率仅为10-6 Ω?cm 2021/3/14 * 五、应用前景: 光子传感器 　　石墨烯还可以以光子传感器的面貌出现在更大的市场上,这种传感器是用于检测光纤中携带的信息的,现在,这个角色还在由硅担当,但硅的时代似乎就要结束。去年10月,IBM的一个研究小组首次披露了他们研制的石墨烯光电探测器,接下来人们要期待的就是基于石墨烯的太阳能电池和液晶显示屏了。因为石墨烯是透明的,用它制造的电板比其他材料具有更优良的透光性。 2021/3/14 * 美科学家制出4寸石墨烯晶圆 2021/3/14 * 五、应用前景: 减少噪音 　　美国IBM 宣布,通过重叠2层相当于石墨单原子层的“石墨烯(Graphe