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URE-2000 系列紫外深度光刻机 中国科学院光电技术研究所，是中国科学院在西南 地区规模最大的研究所 ,2001 年整体进入中国科学院知识创 新工程。 光、微光学与微电子光学装备研制是中国科学院光电技术 光、 研究所的重点学科之一， 不仅拥有一支总体设计水平高， 机、电配套，积累了丰富经验的科研队伍，还拥有一支实力 雄厚的试制加工、工艺和测试力量，为研发、生产和拓展微 电子装备技术领域奠定了坚实的基础。该所在充分发挥多年 从事微细加工光学专用设备产品的攻关与研制的技术优势 的同时，坚持走自主创新之路，加强核心技术、共性技术和 关键部件的自主创新，重视科技成果的应用和转化，着力把 自主创新作为培育新的经济增长点和提升核心竟争力的根 本点。近期成功研发的 URE-2000 系列紫外深度光刻机，产 品以其特、新、优赢得了社会的赞赏，成为市场倍受欢迎的 微细加工光刻设备，项目荣获第二届（ 2007 年度）中国半导 体创新产品和技术奖。 URE-2000 系列紫外单、双面深度紫外光刻机，是为适 应国内、外微电子、微机械、微光学技术最新发展和市场的 需求，坚持高起点，瞄准国际技术前沿和国内、外发展趋势 而创新研发的系列成果之一，该系列产品在分辨力增强技 术、掩模对准技术、均匀照明曝光技术、工件台技术，以及 线条侧壁增陡技术等关键单元技术上不断取得新的突破，尤 其在深度光刻中具有特色，对开展微电子、微光学、微机械 系统、红外器件、准 LIGA 及声表面波等器件的研制和生产 具有突出的功能和用途。 该系列单、双面紫外深度光刻机，分别采用 200W 3.5kW 直流汞灯、紫外增透膜、冷光介质膜等技术实现强功 率高均匀照明；采用球气浮自动调平调焦技术实现精确调 平、准确分离和消除曝光间隙；采用高倍率双目双视显微镜 与 CCD 图像对准技术，实现高精度对准和套刻；采用高反 射率大包容角椭球反射镜、 i 线高透过率光学玻璃材料和光 学镀膜技术增加曝光能量及小聚光角等侧壁增陡技术；采用 特殊蝇眼透镜平滑衍射效应提高光刻分辨力等先进技术，具 有性能可靠、外观精美、自动化程度高等特点。产品以其突 出的功能和可靠的品质，领先的技术和优质的服务，受到国 内、外众多用户的青睐和好评。产品远销朝鲜、新加坡、越 南等国。 日前，在中国科学院知识创新工程机制的激励下， 支以中青年博士、硕士为主体的攻关与研发技术骨干队伍正 在充分发挥技术带头人和创新、创业人才的作用，将在发展 我国微电子装备技术中做出新的贡献。 1URE-2000S 型单、双面紫外光刻机 URE-2000S 型紫外单、双面深层光刻机，是中国科学 院光电技术研究所根据市场需求研制成功的一种新型深紫 外（365nm）光刻设备。该机采用国内首创的 CCD图像底面 对准技术及单曝光头正面曝光实现双面对准曝光的总体设 计技术，采用新颖的咼精度、多自由度掩模一样片精密对准 工件台结构设计，掩模一样片对准过程直观，套刻对准速度 快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真 空吸附的方式，操作方便。 2URE-2000/35 型紫外光刻机 中国科学院光电技术研究所，成功研发的URE-2000/35型紫外光刻机，集新颖性、可靠性、实用性为一体，采用柔性支点实现咼精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升 中国科学院光电技术研究所， 成功研发的 URE-2000/35 型紫外光刻机，集新颖性、可靠性、实用性为一体， 采用 柔性支点实现咼精度自动调平；真空接触自动曝光； 样片升 降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用积木错 位蝇眼透镜实现咼均匀照明； 可连续设定分离间隙， 采用 19 英寸（ 1 英寸 =25.4 毫米） 大屏幕液晶显示，对准过程方便直 观。整机具有性能可靠、外观精美，操作方便、自动化程度 咼等特点，可广泛适应于咼校和科研院所、生产企业开展微 电子技术、 MEMS 、声表器件、红外探测器、液晶等领域教学、科研，以及小批生产器件的需求。 3URE-2000A 型紫外光刻机 URE-2000A 型紫外深度光刻机是中科院光电技术研究 所近期创新研发的一种新型微细加工光刻专用设备。不仅在 国内用户中有着良好的信誉，同时受到国际众多家商的青 睐，产品远销国内、外。该机采用微机控制，配备 i 线紫外 曝光光源，光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技 术，并配备了双目双视显微镜和 CCD 图象对准系统（可同 时使用）、曝光均匀性和能量自动检测系统等，具有分辩力 高，套刻准， 线条陡直， 线条高宽比大， 曝光速度快等特点， 是应用于毫米量级深层光刻工艺生产的新型 i 线光刻设备。 4URE-2000/17 型紫外光刻机 中国科学院光电所研发的URE-2000/17 中国科学院光电所研发的 URE-20