FIB_和_DualBeam的原理和应用.ppt

FIB 和 DualBeam 的原理和应用 2 Focused Ion Beam 6 nm spot size at 1pA 500 V-30 kV Ga+ 1pA to 20 nA 什么是FIB ，FIB能做些什么? FIB 是聚焦离子束显微镜 当离子束打到样品表面上的时候，会产生一些二次离子信号，二次电子信号等，FIB通过对这些信号进行采集和处理形成显微图像。 FIB 是一台加工的机器. 这种加工是定位加工，镓离子 (Ga+) 束打到样品的表面可以使样品上的原子被轰击去除，从而达到切割加工的作用。 FIB 可以进行材料沉积和化学增强刻蚀 通过注入特殊的化学气体，离子束可以沉积一些材料形成亚微米的结构，气体化学系统结合离子束可以形成化学刻蚀来进行选择性切割。 3 电子与 Ga+ 离子比较 离子是带正电的原子核，其质量和动量分配权大于电子 (360 倍于电子)，这使得FIB具有材料切割，成像和微观沉积的功能 同样束流能量下其他参数有很大差别： 质量: Ga+ Ion = 128,000 倍于电子 速度: Ga+ Ion = 1/360 倍于电子 动量: Ga+ Ion = 360 倍于电子 4 FIB 能做而SEM 不能做的…… 去除/沉积材料 显示材料衬度的二次离子图像 通道衬度 进行原位样品制备 同时对样品进行制备和观察 离子束与样品的相互作用区比电子束小，一般是5 nm 到40 nm，在 30 kV 的能量下。 5 离子镜筒与电子镜筒的差别 和电子镜筒相比，离子镜筒具有自清洁的功能，几乎可以自动清除各种颗粒和污染，终生几乎不需要什么清理，而电子束则不然。 镓离子源是冷源，不需要一直加热，不用时可以关掉。 离子镜筒的透镜全是静电场透镜，几乎不产生热量。 离子镜筒的光阑易损，需要经常更换。 6 镓离子源和离子镜筒 镓离子源形成的TYLOR锥 电荷被拉出 7 FIB 镜筒与SEM SFEG对比 双束：FIB做加工，沉积，SEM观察，缺一不可