磁控溅射法制备薄膜材料实验报告..docxVIP

实验一磁控溅射法制备薄膜材料 一、 实验目的 1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序； 2、 制备出一种金属膜,如金属铜膜； 3、 测量制备金属膜的电学性能和光学性能； 4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用Or i g i n绘图软件对实验数据 进行处理和分析。 二、 实验仪器 磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金 属铜靶、氮气等实验耗材。 三、 实验原理 1、磁控溅射镀膜原理 （I ）辉光放电 溅射是建立在气体辉光放电的基础上，辉光放电是只在真空度约为儿帕的稀薄气 体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。辉光放电时，两个电 极间的电压和电流关系关系不能用简单的欧姆定律来描述，以气压为1. 33Pa 的Ne为例，其关系如图5 -1所示。 E 3^wwirJtnt E 3^ wwirJt nt io- i(r i(r kmc 电渝密度JA/cni） 图5-1气体直流辉光放电的形成 当两个电极加上一个直流电压后，由于宇宙射线产生的游离离子和电子有限, 开始时只有很小的溅射电流。随着电压的升高，带电离子和电子获得足够能量， 与中性气体分子碰撞产生电离，使电流逐步提高，但是电压受到电源的高输出阻 抗限制而为一常数，该区域称为“汤姆森放电”区.一旦产生了足够多的离子和 电子后，放电达到自持，气体开始起辉，出现电压降低.进一步增加电源功率