磁控溅射镀膜原理和工艺设计.docxVIP

礒控溅射镀膜原理及工艺 扌商要：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着 广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅豺镀膜和离子镀。这里主要 讲一下由溅豺镀膜技术发履来的磁控溅射镀膜的原理及相应工艺的研究。 关键说］:溅射：概射变童；工作气压；沉积率。 绪论 溅射现象于1870年幵始用于镀膜技术，1930年以后由于捉高了沉积速率而逐渐用 于工业生产。常用二极濺射设备如右图。 通常将欲沉积的材料制成板材-靶，固定 在阴极上。基片置于正对鞄面的阳极上，距 靶一定距离。系统抽至高真空后充入（10? 1）帕的气体（通常为氮乞），在阴极和阳极 间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。 放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极， 与耗表面原子碰撞，受碰-撞从靶面逸出的靶 原子称为溅.射眉子，其能量在1至几十电子伏 范围内。溅.射原子在基片表面沉积成蹊。其 中磁控溅豺可以被认为是镀膜技术中最突岀 的成就之一。它以溅豺率高、基片温升低、 旗-基结合力好、装置性能稳定、操作控制方 便等优点，成为镀膜工业应用领域（特别是建 筑镀膜玻璃、透明导电膜玻璃、柔性基材卷 绕镀等对大面积的均匀性有特别苛刻要求的连续镀膜场合）的首选方案。 1磁控溅射原理 溅射属于PDV （物理乞相沉积）三种基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心 阴极禹子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频禹