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第10章 透射电子显微镜 ;第一节透射电子显微镜的结构与成像原理;透射电镜的结构与原理;透射电镜光路原理与光镜比较 ;日本电子公司透射电镜 JEM-2100 ;JEM-2010透射电镜镜筒剖面图;原荷兰PHILIPS公司透射电镜 ;FEI公司TECNAI系列透射电镜 ;高电压电子显微镜 JEM-ARM1300 ;一、照明系统;1. 电子枪;1. 电子枪（1）;1. 电子枪（2）;1. 电子枪（3）;1. 电子枪（4）;1. 电子枪（5）;② LaB6 热阴极电子枪;热阴极电子枪的缺点;③ 场致发射电子枪;在热发射中,只考虑电子的微粒性,认为凡是能量高于势垒的 电子就能逸出物体，而能量低于势垒的电子没有逸出的可 能。而场致发射则要考虑电子的波动性。按照量子力学的观 点，能量高于势垒的电子有可能被反射回来，而能量低于势 垒的电子也有可能透射出去。即当能量为E1的电子在A点碰 到势垒时，并不是象微粒那样被碰回来，而是抵抗势垒继续 向前运动，它的波函数是按指数下降的。如果势垒在这里不 是太宽,则在B点的波函数还有相当的值，亦即这些电子有一 定的逸出几率。电子能穿过比它全部能量还高的势垒的现 象称为隧道效应。;③ 场致发射电子枪;理论分析表明：若施加阴极的电场强度为E0，则使表面位垒的下降值△W 可用下式来表示：;若阴极材料电子逸出功为Ф，当△W =Ф时，则场致发射所要求电场强度E0：（e 和E0数值代入，并经单位换算后得）;若抽取电极与阴极间施加电压为V k ，阴极尖端曲率半径为R ， 则作用在阴极表面的外电场强度E0：;如此尖阴极在强电场下会吸附周围气体分子，并发生放电，造成发射电子束流不稳－－闪烁噪音。 闪烁噪音：反过来会引起抽取、加速电极的电压波动，导致虚光源的位置变化。;超高真空要求： 为减小闪烁噪音，要求场发射电子枪在超高真空（10-8Pa）的条件下工作。但即使这样，也不能完全克服。因此，如何改善场发射电子枪发射电子束流的稳定性，减小其闪烁噪音，一直是人们的努力目标。 技术进展 1、采用新型的阴极材料 阴极材料主要在如下两个方面来努力： （1）具有小的电子逸出功； （2）在工作条件下材料的成分和组织结构稳定。;③ 场致发射电子???;2、电子枪结构的改进 为减小闪烁噪音对虚光源位置的影响，近年来发展了一种圆锥阳极型场致发射电子枪。虚光源：在加速电极上方。 优点：在低加速电压下，因闪烁噪声使抽取及加速电极电压的波动，对虚光源不对中和散焦程度影响都很小。适合于低能扫描电子显微方面的工作。;3、采用全数字处理系统 为提高电子束流稳定性，近年来在电子光学的控制系统中发展了一种可自动补偿的全数字处理系统。 特点：是利用储存功能（如无偏移误差的帧储存累加和高的积分速率等）来进行补偿控制。因此，即使冷阴极的场致发射电子枪，其闪烁噪声可以从原来的4%～ 6%降低到小于1% （在长达80min 的工作时间内）。;各种电子枪的比较;;2. 聚光镜（1） ;2. 聚光镜（2）;2. 聚光镜（3）;2. 聚光镜（4）;2. 聚光镜（5）;二、成像系统－物镜（1） ;二、成像系统－物镜（2）;二、成像系统－物镜（3）;二、成像系统－中间镜;二、成像系统－投影镜 ;成像系统的成像操作光路;电子衍射;成像系统的电子衍射操作光路;显微图像成像和电子衍射操作光路比较;高倍透射电镜显微图像图像;电子衍射花样成像;三、观察记录系统 （1）;三、观察记录系统 （2）;三、观察记录系统 （3）;数字相机CCD（上部）－电子衍射像拍摄;数字相机CCD（下部）－高分辨像拍摄;四、真空系统;五、电源与控制系统;第二节主要部件的结构与工作原理;一、 样品台（1）;载网支持膜;碳支持膜 ;微栅膜 ;超薄碳膜;一、 样品台（2）;侧插式样品倾斜装置（1） ;侧插式样品台;侧插式样品倾斜装置（2）;侧插式样品倾斜装置（3）;单倾样品台;双倾样品台;各种用途的TEM样品台;二、电子束倾斜与平移装置（1） ;二、电子束倾斜与平移装置（2）;三、消像散器（1）;三、消像散器（2）;四、光阑（1） ;四、光阑（2）;四、光阑（3）;四、光阑（4）;四、光阑（5）;四、光阑（6）;四、光阑（7）;第三节电镜分辨本领和放大倍数;1. 点分辨本领的测定 ;扫描电镜的点分辨率照片;2. 晶格分辨本领的测定;电子显微镜的晶格分辨本领 ;金（220）、（200）晶面晶格分辨率像 ;3. 放大倍数测定（1） ;3. 放大倍数测定（2）;第四节透射电镜样品的制备方法;TEM应用的深度和广度一定程度上取决于试样制备技术。 TEM的样品厚度控制在100～200nm，样品经铜网承载，装入样品台，放入样品室进行观察。 TEM样品的制备方法主要有支持膜法、晶体薄膜法、复型法和超薄