课件薄膜技术第五章.pptxVIP

第五章 化学气相沉积（CVD）赵颖内容5.1 化学气相沉积概述5.2 等离子体CVD（PECVD）5.3 热CVD5.4 有机金属CVD（MOCVD）5.5 金属CVD内容5.1、化学气相沉积概述5.1.1 定义5.1.2 CVD薄膜沉积过程5.1.3 主要的生成反应5.1.4 CVD的类型及装置5.1.4 CVD的应用物理气相沉积（PVD）：主要利用的是物质的物理变化，如从固体到气态到薄膜等。溅射系统玻璃幕墙物理气相沉积（PVD）：主要利用的是物质的物理变化，如从固体到气态到薄膜等。化学气相沉积（CVD）：在高温空间以及活性化空间中发生的化学反应。反应原料为气态，生成物中至少一种为固态。有源寻址（TFT）液晶屏太阳能光伏发电（BIPV、荒漠电站等）非晶硅薄膜光伏电站并网 PECVD系统120MW非晶硅生产线120MW Amorphous System玻璃尺寸: 1.1m x 1.4m生产节拍: 20 sec 磷砷化稼 (GaAsP)：红色，橘红色，黄色 磷化稼 (GaP)：红色，黄色，绿色 氮化镓 (GaN)：绿色，翠绿色，蓝色MOCVD系统物理气相沉积（PVD）：主要利用的是物质的物理变化，如从固体到气态到薄膜等。化学气相沉积（CVD）：在高温空间以及活性化空间中发生的化学反应。反应原料为气态，生成物中至少一种为固态。一般情况下，为引起化学反应，需要对反应系统输入反