TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展.pdf

TiN薄膜制备方法、性能及其应用 TiN薄膜制备方法、性能及其应用 前言:通过上半个学期对薄膜制备技术课程的学习,对于薄膜的制备方法,各种 前言:通过上半个学期对薄膜制备技术课程的学习,对于薄膜的制备方法,各种 薄膜的检测方式和多种显微镜有了深刻的了解和认识。并在课后通过查阅文献和文 薄膜的检测方式和多种显微镜有了深刻的了解和认识。并在课后通过查阅文献和文 献检索之后,自己学习了TiN 薄膜制备的方法,并联系课上学习到的知识,对薄膜制 献检索之后,自己学习了TiN 薄膜制备的方法,并联系课上学习到的知识,对薄膜制 备技术这门课有了更加深入的认识,本文便是我课后自学的成果。 备技术这门课有了更加深入的认识,本文便是我课后自学的成果。 摘要:综述了 TiN 薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉 摘要:综述了 TiN 薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉 积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种 TiN 薄膜的制备方法,评述了各 积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种 TiN 薄膜的制备方法,评述了各 种制备工艺的优缺点。介绍了 TiN 薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展, 种制备工艺的优缺点。介绍了 TiN 薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展, 最后对 TiN 薄膜的应用范围和领域作了展望。 最后对 TiN 薄膜的应用范围和领域作了展望。 关键词:TiN 薄膜制备方法性能及应用 关键词:TiN 薄膜制备方法性能及应用 正文:TiN 薄膜属于第Ⅳ族过渡金属氮化物。NaCI 是面心立方晶体结构类 正文:TiN 薄膜属于第Ⅳ族过渡金属氮化物。NaCI 是面心立方晶体结构类 型。它的结构是由金属键和共价键混合而成,同时具有金属晶体和共价晶体的特点: 型。它的结构是由金属键和共价键混合而成,同时具有金属晶体和共价晶体的特点: 高熔点、高硬度、优异的热和化学惰性。优良的导电性和金属的反射比。此外,TiN 高熔点、高硬度、优异的热和化学惰性。优良的导电性和金属的反射比。此外,TiN 薄膜还具有高温强度、优越的耐腐蚀性能以及良好的导热性能。它是第一个产业化 薄膜还具有高温强度、优越的耐腐蚀性能以及良好的导热性能。它是第一个产业化 并广泛应用的硬质薄膜材料,有关研究已成为国内外硬层研究的热点。TiN 薄膜具 并广泛应用的硬质薄膜材料,有关研究已成为国内外硬层研究的热点。TiN 薄膜具 有 有 广阔的应用前景,在刀具、模具、装饰材料和集成电路中都具有重要的应用价 广阔的应用前景,在刀具、模具、装饰材料和集成电路中都具有重要的应用价 值和广阔的应用前景,因而越来越受到人们的重视。随着对 TiN 薄膜研究的深入。 值和广阔的应用前景,因而越来越受到人们的重视。随着对 TiN 薄膜研究的深入。 制备 TiN 薄膜的工艺也得到不断地发展,对 TiN 薄膜也提出了更均匀、更耐磨、更 制备 TiN 薄膜的工艺也得到不断地发展,对 TiN 薄膜也提出了更均匀、更耐磨、更 耐腐蚀和更高可靠性的性能要求。为了适应这一发展趋势的需要。许多研究人员对 耐腐蚀和更高可靠性的性能要求。为了适应这一发展趋势的需要。许多研究人员对 TiN TiN 薄膜的制备技术和性能开展了大量的研究工作。本文对近年来 TiN 薄膜的制 薄膜的制备技术和性能开展了大量的研究工作。本文对近年来 TiN 薄膜的制 备技术、性能及其应用进行了简要的介绍,最后对 TiN 薄膜的发展趋势和方向进行 备技术、性能及其应用进行了简要的介绍,最后对 TiN 薄膜的发展趋势和方向进行 了展望。 了展望。 1.TiN 薄膜制备方法的研究 1.TiN 薄膜制备方法的研究 TiN 薄膜的研究工作早在 20 世纪 60 年代已开始进行,但因材料和器件制备上 TiN 薄膜的研究工作早在 20 世纪 60 年代已开始进行,但因材料和器件制备上 的困难,使研究工作一度转入低潮。后来随着薄膜制备技术的提高,国内外对TiN 薄 的困难,使研究工作一度转入低潮。后来随着薄膜制备技术的提高,国内外对TiN 薄 膜的研 膜的研 究工作又开始活跃起来,制备方法也多样化了, 目前已取得很大进展。TiN 薄 究工作又开始活跃起来,制备方法也多样化了, 目前已取得很大进展。