电镀设备技术方案.docVIP

PAGE PAGE 3 电镀设备技术方案 技术指标 1．可镀基材幅宽： ≤550mm 2．电镀速率： 0-30m/h 3．电镀级数： 1级 4．钛篮尺寸： 480x120mm 5．单条线功率： 12KVA 6．电镀电源： 15V 0-100A 7．热风烘干： 2对风口，0-200° 8．基材芯轴内径： 4″ 9．基材最大卷径： ≤φ750mm 设备配置 1．真空室：采用卧式纵列布局，由收、放卷车—真空室——靶极车—电控柜组成。真空室为不锈钢材质，内表面抛光，外表面喷丸处理。真空室体固定，室体前后两侧分别安装收、放卷车和溅射阴极靶车。4对溅射阴极靶均配有独立的充氩气系统。溅射室基材入口处安装750x120mm线性离子源，对基材进行等离子处理。 2．磁控溅射阴极系统：镀膜生产线采用双面镀膜结构配置， 镀膜区安装2套线性离子源；8套平面靶，配套平面靶与旋转靶互换底座。溅射阴极均采用DC直流溅射，所有溅射靶体均安装在溅射靶体拖车上。溅射室上分别安装5只观察窗，可分别观察每只溅射靶、线性离子源工作状态。 3．真空系统：本设备采用国产双级ZJ-600罗茨泵机组作为预抽机组，对全线真空室进行预抽，同时收、放卷室进行工作抽空。采用3台中科科仪产F-3500分子泵、4台进口1600分子泵，分别安装在真空腔的周围及。采用国产ZJ-600罗茨泵机组,作为7台分子泵的前级机组。在2放卷轴基材下方安装2套低温冷凝水捕集器，制冷温度-120℃，用于捕集基带释放出的水蒸气，深冷泵选用美国POLYCOLD-670C。真空系统分别配置相应的管道、阀门，真空测量，采用一台瑞士INFICON公司产真空计，与主机主控系统通信，按程序控制设备运行。采用一台国产中真空计，带3路ZJ-10真空规管，可测量3 4．卷绕系统：由放卷轴-过渡轴-应力检测轴-展平轴-过渡轴-收卷轴等构成。收放卷轴和冷辊轴分别采用变频电机驱动。为保证基材卷绕过程张力恒定，采用日本三菱公司产恒张力系统控制。各传动轴密封采用磁流体密封技术。传动电机选用美国合资的电机。 5．配气系统：采用3路美国AE公司产质量流量计控制工作气体流量，其中2路为离子源供气，1路为靶供气。经气管、喷嘴将工作气体喷到基材表面。工作过程程序控制。 6．整机控制系统：采用西门子PLC可编程控制器控制，西门子公司触摸屏显示，整机工作状态分手动控制和全自动程序控制。整机各功能部件控制单元均与PLC通讯，根据镀膜工艺过程要求，在控制屏上设定工作程序参数，实现全自动控制。主要控制元件均选用进口，保证整机运行安全可靠。