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半导体工艺Photo-优质课件.ppt

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IC工艺技术系列讲座 第二讲;讲座提要;1. General;2.0 Facility requirement;3.0 Mask (掩膜版) ;Pellicle;Pellicle protection;1、我们的市场行为主要的导向因素,第一个是市场需求的导向,第二个是技术进步的导向,第三大导向是竞争对手的行为导向。 2、市场销售中最重要的字就是“问”。 3、现今,每个人都在谈论着创意,坦白讲,我害怕我们会假创意之名犯下一切过失。 4、在购买时,你可以用任何语言;但在销售时,你必须使用购买者的语言。 5、市场营销观念:目标市场,顾客需求,协调市场营销,通过满足消费者需求来创造利润。**** 6、我就像一个厨师,喜欢品尝食物。如果不好吃,我就不要它。***** 7、我总是站在顾客的角度看待即将推出的产品或服务,因为我就是顾客。*** 8、利人为利已的根基,市场营销上老是为自己着想,而不顾及到他人,他人也不会顾及你。**** ;4.0 光刻工艺概述;4.1 Prebake and HMDS treatment;4.2 Resist Coating (涂胶);4.2.1 Coater (涂胶机);SVG 8800;4.2.3 Coater (涂胶机);4.2.4 Coater (涂胶机); Resist Type; 4.3 .1 Exposure (曝光) ;4.3.2 Exposure (曝光) ;4.3.3 Exposure (曝光) ;Contact print ---Canon 501;4.3.4 Exposure (曝光) ;PE 240 Scanner;Canon 600 Scanner;4.3.5 Exposure (曝光) ;4.3.6 Exposure (曝光) 6;4.4.1 Develop (显影);4.4.2 Develop (显影);4.4.3 Develop (显影);4.5.1 Develop Inspection ;4.5.2 Develop Inspection ;Nanoline --- for CD measurement;Hitachi 8860 --- CD SEM;Leitz Microscope inspect station;Autoload UV inspection system ;5.0 BCD 正胶工艺;SVG 90;SVG 8800;5.1.1 Positive Resist (正胶);5.1.2 Positive Resist (正胶);5.1.4 Positive Resist (正胶);5.2 Expose;Positive Resist reaction during expose;Positive Resist reaction during expose;5.2.1 Ultratech Stepper ;Ultratech Stepper 1100;Ultratech Stepper 1500/1700;5.2.2 Ultratch stepper specification;UTS---Reticle and Job file;UTS---primary lens;UTS Alignment Optic;Ulratech stepper site by site alignment;UT alignment procedure;5.3 Perkin Elmer aligner;PE 240 Specification;PE 240;PE 240;PE --- Focus wedge mask;PE --- distortion;PE --- Projection optic;PE Mercury lamp;PE --- Adjustable slit;PE alignment procedure;5.4.1 Resist develop ;SVG 8800;SVG 90;5.4.2 Resist develop ;6. History and 未来的光刻工艺;6.1 History ; Lithographic lore has it that the diazonaphthoquinone/novolak resist (the term novolak is derived from the Swedish word lak, meaning lacquer or resin and prefixed by the Latin word novo, meaning new) made their way from the blue print paper industry to the mic

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