薄膜厚度的监控.pptxVIP

1 薄膜厚度的监控 2 二、电阻法 测量薄膜电阻变化来控制金属膜厚度是最简单的一种膜厚监控方法。右图是用惠斯顿电桥测量薄膜电阻率的例子。用这种方法可以测量电阻从1欧姆到几百兆欧姆的电阻，若加上直流放大器，电阻率的控制精度可达0.01%。 但是随着薄膜厚度的增加，电阻减小要比预期的慢，导致的原因是膜层的边界效应、薄膜与块材之间的结构差异以及残余气体的影响。因此，用该方法对膜厚监控的精度很难高于5％。就是这样，电阻法在电学镀膜中还是常被使用的。 第1页/共31页 3 三、石英晶体振荡法 石英晶体振荡法测量薄膜厚度的原理是石英晶体振荡的频率会随着晶体上薄膜质量的变化而变化。因此，它是一种薄膜质量测量方法，它也被称为质量微天平。由于它是通过测量沉积的膜层的质量来测量沉积材料的厚度，因此，不论是金属材料、半导体材料、氧化物等等的任何材料都能使用，它是使用最广泛的膜厚监控方法。 石英晶体振荡器的预期灵敏度可高达10-9g/cm2，对于密度为1g/cm3的材料，其对应的物理厚度大致为。但是，实际所能达到的灵敏度大致只有10-7 g/cm2，另外由于膜层密度与块材的不同，使得物理厚度的测量精度受到限制。 第2页/共31页 4 第3页/共31页 5 第4页/共31页 6 石英晶体监控有三个非常实际的优点：1是装置简单，没有通光孔的窗口，没有光学系统安排等麻烦；2是信号容易判读，随着膜厚的增加，频率线