第八章模具制造技术刘航.pptVIP

正文 主编 第一页，共二十六页。 第一节　应用高级精密数控机床加工模具 1)CNC电火花加工机床。2)CNC连续轨迹坐标磨床。1)控制系统应减少或简化编程工作。2)加速工件的更换，简化工件的安装调整工作或实现自动定位。3)自动消除铣削加工和磨削加工毛刺。4)能在加工中实现无接触测量。5)能快速更换刀具，采用传感器自动控制刀具的磨损。6)各种数控机床的不同软件能协调一致。 第二页，共二十六页。 第二节　开发应用模具计算机辅助设计和制造技术 1)数据信息是最容易处理的，只需要将所建立的数据结构送至中央处理单元(CPU)进行加工，最后以一定的数据结构形式输出所需的数据即可。2)图形信息又称为几何信息，处理这类信息首先必须解决图数转换手段，即输入图形，并建立适合于图形的数据结构，将其送至中央处理单元(CPU)进行加工后，再通过数图转换手段(即图形输出，如图形显示或自动绘图接口)，在图形终端或绘图机输出所需的图形。3)设计经验信息与前两类信息不同。 第三页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 表8-??1　适用于模具的硬质化合物涂覆方法 表8-??1　适用于模具的硬质化合物涂覆方法 一、CVD法 第四页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 　　CVD法(Chemical Vapor Deposition)是指在高温下将盛放工件的炉内抽成真空或通入氢气，再导入反应气体。气体发生化学反应，在工件表面形成硬质化合物涂层，对于模具主要是气相沉积TiC，其次是TiN和Al2O3气相沉积TiC是将工件在氢气的保护下加热到900～1100℃，再以氢气作载流气体将四氯化钛和碳氢化合物（如CH4）输入盛放工件的反应室内，使之在基体表面发生气相化学反应，从而得到TiC涂层。 第五页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 1)处理温度高，沉积物和基体之间发生碳与合金元素间的相互扩散，使涂层与基体之间的结合比较牢固。2)形状复杂的模具也能获得均匀的涂层。3)设备简单，成本低，效果好(CVD法处理的模具一般可提高模具使用寿命2～6倍)，易于推广。 1)处理温度高，易引起模具变形。2)由于涂层厚度较薄(不超过15μm)，因此处理后不允许研磨修整。3)由于处理温度高，模具的基体会软化，对高速钢和高碳高铬钢模具，必须在涂覆处理后于真空或惰性气体中再进行淬火、回火处理。 第六页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 二、PVD法 　　PVD法(Physical Vapor Deposition)是指在真空中把Ti等活性金属熔融、蒸发，使其离子化后，在高压静电场中使离子加速并沉积于工件表面形成涂层。PVD法有离子镀、蒸汽镀和溅射镀三种。由于离子镀沉积效果最明显，并具有沉积速率高、离子绕射性好、附着力强等优点，所以目前有关模具PVD处理的研究应用主要集中于离子镀方面。处理时，先将工件置于真空室中，使真空室达10－2～10－4Pa真空度，然后通入反应气体（如H2或C2H2＋Ar）。在工件和蒸发源（涂覆用金属，如Ti）之间加有3～5kV的加速电压，在工件周围形成一个阴极放电的等离子区。工件因气体正离子的轰击而被加热。这时，以电子枪轰击蒸发源的金属（Ti），使之熔融、蒸发，并部分离子化，同时在离子化电极加上数十至数百伏的正电压来促进离子化。 第七页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 Ti离子、原子和气体离子在加速电压的作用下飞向工件（经过等离子区时，尚未电离的Ti原子被气体离子、电子碰撞而电离为Ti离子），在工件表面发生反应而成为TiC 涂层1)处理温度一般为400～600℃，这一温度在用二次硬化法处理Cr12模具钢的回火温度附近，因此这种处理不会影响Cr12模具钢原先的热处理效果。2)处理温度低，模具变形小。1)涂层与基体的结合强度较低。2)如果涂覆处理温度低于400℃，则涂层性能会下降，故不适用于低温回火的模具。 3)采用一个蒸发源，对形状复杂的模具覆盖性能不好；若采用多个蒸发源或通过使工件绕蒸发源旋转来弥补，又会使设备复杂、成本提高。 第八页，共二十六页。 第三节　模具表面硬化处理 三、 TD法　　　TD法(Toyota Diffusion coating process)是指将工件浸入添加有质量分数为15％～20％的Fe-V、Fe-Nb、Fe-Cr等铁合金粉末的高温（800～1250℃）硼砂盐浴炉中，保持0．5～10h（视要求的涂层厚度、工件材料和盐浴温度而定），在工件表面形成1～10μm或更厚的碳化物涂覆层，然后进行水冷、油冷或空冷（尽量与基体材料的淬火结合在一起进行）。1)碳化物形成元素的原子在高温下以活化原子状态熔于硼砂熔液中，使B203还原，还原后的B向基体内扩散，发生渗硼反应。 第