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精品资料
修 订 记 录
版本 日期 修订内容/摘要 页次 修订人
0 2007/05/02 All
新制订 任东
0. 目录
1. 范围
2. 目的
3. 权责
4. 名词定义
5. 生产条件
可编辑修改
精品资料
5.1 RECIPE 设定
5.2 机台参数设定
5.3 管制项目与规格
6. 参考文件
7. 使用表单
1. 范围
1.1 适用区域：1A Array Etch 区。
1.2 适用制程：紫外光处理制程。
1.3 适用人员：Etch 区EUV 机台进行作业之Operator Engineer。
1.4 适用机台
Fab Machine ID. Process
1A A1EUV110 紫外光处理
2. 目的
本文件主要目的在订出紫外光处理机（EUV）制程之制程管制项目与规格，用以确保制程感谢阅读
的稳定性并规范管制项目异常时的处理方法与步骤，以做为蚀刻工程部人员在建立产品生谢谢阅读
产条件或管理项目时，有依循之依据，期能快速导入生产条件，使生产管理步入轨道，而感谢阅读
能达质量管理之要求。
可编辑修改
精品资料
3. 权责
此规范适用于EUV 机台之设备、制程工程师，保养修护人员，及值班工程师。感谢阅读
4. 名词定义
4.1 EUV：Excimer Ultraviolet
5. 生产条件
生产条件是生产机台相当重要的设定项目。为保持机台稳定运行以及产品质量的稳定，经谢谢阅读
承认后的生产条件是不得任意进行变更。
5.1 RECIPE 设定
由于生产条件不同需求，本机台具有不同Recipe 设定。生产时，将依生产条件需求自动选精品文档放心下载
择合适Recipe 进行生产。Recipe 内容未经许可，不得随意变更。谢谢阅读
5.1.1 EUV Recipe 设定
RECEIPE：1
Tact Time ：40 sec
Recipe Items Value
ID 1
COMMENT _1499ASH01
TACT TIME(sec) 40
CONV SPEED LOW (mm/min) 3000
CONV SPEED HIGH (mm/min) 6000
EUV1 ON/OFF ON
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