液晶材料与技术之LCD工艺技术.pptxVIP

液晶材料与技术〔9〕——LCD工艺技术阵列关键工艺制屏关键工艺模组关键工艺第一页，共一百二十六页。■阵列关键工艺■ 制屏关键工艺■ 模组关键工艺2第二页，共一百二十六页。Array制程中的几个主要技术清洗溅射〔PVD)CVD 〔PECVD〕曝光和显影刻蚀工艺3第三页，共一百二十六页。与灰尘做斗争是TFT-LCD行业永恒的 任务！进入TFT-LCD制造车间看到最多的设备就是各式各样的清洗 装置有人估计在液晶显示器的整个制备工艺中清洗工艺的工作量占总 工作量的30%--40%，而且随着液晶显示技术的不断进步清洗工艺正发挥着越 来越重要的作用。4第四页，共一百二十六页。几个纳米的颗粒就会造成膜的外表状态的起伏， 微米量级的颗粒就会造成膜的断裂或短路，或 者破坏器件的电学特性。玻璃基板外表的任何 有机溶剂可能造成膜的脱落和溶解。不仅要消除各种微小颗啦，还要消除各种可能 的有机污染。5第五页，共一百二十六页。洗净原理及方法湿式化学清洗刷洗湿式清洗高压液体喷淋超高压微细颗粒水喷射清洗二流体喷淋清洗流水式高频超声波清洗法超声波浸泡式超声波清洗法紫外线照射清洗干式清洗等离子体清洗6第六页，共一百二十六页。1.湿式化学清洗所谓湿式化学清洗技术，是以液态酸、 碱溶剂与去离子水.之混合液清洗基板 外表，并枯燥的程序。化学清洗不仅可以有效去除有机物，也 可以通过化学反响有效去除金属等无机 污染物。但是湿式化学清洗法有时不但不能去除 微粒，反而会增加微粒在基板外表附着 的可能性。仅仅采用湿式化学清洗还不能完全解决问题。第七页，共一百二十六页。72.涮洗(擦洗)刷洗是利用刷子在基板外表滚动去除微粒及 有机薄膜的一种机械清洗方法。清洗溶液一般采用去离子水.加上一些可以降 低水的外表张力的清洁剂。在不同工艺阶段的清洗对刷洗的要求是不一样 的。刷洗中需要注意的是防止刷毛对基板图形 的损伤，刷毛的品质非常重要，在基板成 膜以后的清洗中，刷毛最好不要直接接触 基板图形外表。第八页，共一百二十六页。8刷洗的方法有两种：一种是横向滚刷，即圆滚 的轴线平行与玻璃板基所在的平面，另一种是 纵向滚刷，即圆滚的轴线是与玻璃板基所在的 平面垂直的。9第九页，共一百二十六页。使用刷洗方法应注意的是：必须保持刷子经常清洁，防止由于刷子上粘染 的污垢把玻璃板基弄脏而造成再污染。一般刷子的使用寿命都不长，使用时间长了还 会发生掉毛现象，因此需要定期更换。特别应该注意的是，当玻璃板基上的涂层材质 比较松软时，刷洗时容易造成膜层被划伤，因 此这时不宜采用刷洗的方法。10第十页，共一百二十六页。3.高压液体喷淋是利用高压泵把清洗用水加压到10～30公斤的高压力， 再通过喷嘴把高压低流速的水转化成低压高流速的清洗 水喷射到玻璃基板的外表进展清洗的，为了扩大清洗面 常使用能形成扁平扇形状清洗面的喷嘴。用这种方法可去除玻璃基板上的3～5μm的粒子。用这种方法可对在流水线上运行的玻璃基板进展连续化的在线 清洗。对于较小微粒而言，去除效率并不高。一般液体压力达 到100 psig (1 psig的单位是1磅/平方英寸=6894.757 N· m-2)才可以有效去除微粒，但如此的高压会 对基板外表图形产生伤害。11第十一页，共一百二十六页。4.二流体喷淋清洗将一种高压气态流体与一种液态流体混合后， 再通过一种特殊的喷嘴〔超音速喷嘴〕使高压 气体与清洗液形成的液滴，以超过声音在空气 中的传播速度〔340 米/ 秒〕的速度喷出，而 把需要清洗的物体放在一个可发生旋转的圆盘 上并使它做旋转运动，当从喷嘴中喷射出的液 滴喷射到做旋转运动的被清洗物体上时，就会 立即崩解并对被清洗物体产生强大的冲击清洗 作用，此时清洗液的速度可到达1000 米/ 秒， 在被清洗物体上附着的超微小颗粒在双流体清 洗液喷射时产生的冲击波作用、被清洗物体外TF表T-受L到CD冲设击时产生的振动作用、液滴沿被清洗物体外表高速喷射第十二页这，共一百三二十六种页。作用的协同作用下而12流体的主要成分是水、乙醇、氨水、除臭剂、抗静电剂、外表 活性剂等;高压气体主要是压缩空气、氮气(N2)、蒸气。TFT-LCD设13第十三页，共一百二十六页。5.超声波超声波具有很高的能量，它在传媒液体 中传播时，把能量传递给传媒质点，传 媒质点再将能量传递到清洗对象物外表， 将声能转化为机械振动能，造成污垢解 离分散。TFT-LCD设14第十四页，共一百二十六页。干式清洗干法清洗与湿法清洗相比，虽然它在玻璃基板上污垢量 较大的情况下，清洗效果往往不如湿法，但当湿法使用 的药液难以渗透到微米级的细微缝隙中时，或被去除的 污垢是有机物时，使用干法清洗会有较好的效果。而且干法清洗具有不需对用过的清洗液进展废液处理， 环境负荷小等优点。所以有时要采用干法清洗