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《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲
一、《材料制备技术》课程说明
(一)课程代码:
(二)课程英文名称:Thin Film Materials and Thin film Technology
(三)开课对象:物理系材料物理专业
(四)课程性质:
本课程是材料物理专业的一门专业选修课。
(五)教学目的
本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识,同时也能了解
该领域内当前的一些前沿研究进展,开阔眼界,这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。
(六)教学内容:
本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方
法,包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时
介绍了薄膜的形成,薄膜的结构与缺陷,薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导
性质等。
(七)学时数、学分数及学时数具体分配
学时数:36
学分数:2
学时数具体分配:
教学内容 讲授 实验/实践 合计
第一章真空技术基础 4 4
第二章真空蒸发镀膜法 4 4
第三章溅射镀膜 4 4
第四章离子镀膜 2 2
第五章化学气相沉积 4 4
第六章溶液镀膜法 4 4
第七章薄膜的形成 4 4
第八章薄膜的结构与缺陷 5 5
第九章薄膜的性质 5 5
合 计
(八)教学方式:
课堂教学
(九)考核方式和成绩记载说明:
考核方式为考试。严格考核学生出勤情况,达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格,综合成绩根据出
勤情况、平时成绩和期末成绩评定,出勤情况占20%,平时成绩占20%,期末成绩占60%。
二、讲授大纲与各章的基本要求
第一章 真空技术基础
教学要点:
通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识,掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。
教学时数:4
教学内容:
第一节:真空的基本知识
第二节:稀薄气体的基本性质
第三节:真空的获得
第四节:真空的测量
考核要求:
1.真空的基本知识(识记)
2 .稀薄气体的基本性质(领会)
3 .真空的获得(领会)
4 .真空的测量(识记)
第二章 真空蒸发镀膜法
教学要点:
了解真空蒸发镀膜的基本原理,了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点,了解膜厚和沉积速率的测量与
监控方法。
教学时数:4
教学内容:
第一节:真空蒸发原理
第二节:蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
第三节:蒸发源的类型
第四节:合金及化合物的蒸发
第五节:膜厚和沉积速率的测量与监控
考核要求:
1.真空蒸发基本原理(领会)
2 .蒸发源的特性及膜厚分布(识记)
3 .蒸发源的类型(识记)
4 .膜厚和沉积速率的测量与监控(领会)
5 .合金及化合物的蒸发(领会)
第三章 溅射镀膜
教学要点:
了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理,掌握溅射法制备的特点,熟悉溅射镀膜的几种基本类型,了解溅
射镀膜的厚度分布特点,明确如何控制厚度均匀性指标。
教学时数:4
教学内容:
第一节:溅射镀膜的特点
第二节:溅射的基本原理
第三节:溅射镀膜类型
第四节:溅射镀膜的
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