1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种精确控制PVT法温场变化的装置.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.07万字
  • 约 11页
  • 2023-03-11 发布于四川
  • 举报

一种精确控制PVT法温场变化的装置.pdf

    一种精确控制PVT法温场变化的装置，属于晶体生长设备领域。本实用新型研发目的是为了解决在线圈的同一位置，很难实现同一炉次炉内温度分布发生变化，甚至得到温度梯度反转的功能的问题，本实用新型包括包括第一线圈、第二线圈、第三线圈、第一升降机构和第二升降机构，第一升降机构上安装有第一线圈，第二升降机构底部安装在第一升降机构上，第二升降机构上安装有第二线圈和第三线圈，第二升降机构带动第二线圈和第三线圈做升降运动，第一线圈套装在第二线圈外侧，第二线圈套装在第三线圈外侧。本实用新型的一种精确控制PVT法温场变

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213447381 U (45)授权公告日 2021.06.15 (21)申请号 202022643938.9 (22)申请日 2020.11.16 (73)专利权人 哈尔滨科友半导体产业装备与技

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >