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- 2023-04-15 发布于四川
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本实用新型涉及一种用于干法清洗设备的晶圆支架，其中该晶圆支架包括：底板，所述底板具有一个安装表面；多个保持件，所述保持件安装至所述底板，且所述保持件在所述底板上的安装位置能够调节；以及多个支撑件，每个支撑件都固定至所述底板的安装表面且每个支撑件的用于支撑晶圆的支撑表面为弧形表面，并且每个支撑件都配备有至少两个保持件。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215731606 U
(45)授权公告日 2022.02.01
(21)申请号 202121762552.8
(22)申请日 2021.07.30
(73)专利权人 保定通美晶体制造有限责任公司
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