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                改创 QC STORY(DMAIC)记录表改 □题目、目标、过程(D)创 □现况分析(4W1H+1B层别)(M)□对策方策创出(I)□效果确认(I)
改创 QC STORY(DMAIC)
记录表
改 □题目、目标、过程(D)
创 □现况分析(4W1H+1B
层别)(M)
□对策方策创出(I)
□效果确认(I)
辅□QC 七工具
助□NQC
七工具
步 ■原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)	工□IE 工具
骤 □真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开	具□检定
6σ QIT 进行要点
一、差異原因分析
a不同
Mask F Ca值較Mask D差F之b較D大因而造成F之阻值較高
C有差異
設備5之Ca值較設備4差
二、短處原因分析
方法	料
e
f	g
環境	人	設備
方法	料
h
f	g
環境	人	設備
m
k週期變化
改创 QC STORY(DMAIC)	记录表
改 □题目、目标、过程(D)	□对策方策创出(I)	辅□QC 七工具
创 □现况分析(4W1H+1B 层别)(M)	□效果确认(I)
助□NQC 七工具
步 ■原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)
骤 □真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开
6σ QIT 进行要点
工□IE 工具
具□检定
共同原因分析(例示)
共同原因分析(例示)
差距原因分析(例示)
設備
方法
設備
方法
××不穩
××不穩
××不穩
××
××
穩定度達
不到A級
E E E E 阻值C值
仍2 然4 低5 於6
1.5p
××
××
××
粉塵高
××
××
人	環境
×
粉塵量未能低於50
料
人
環境
料
改创 QC STORY(DMAIC)记录表改 □题目、目标、过程(D)
改创 QC STORY(DMAIC)
记录表
改 □题目、目标、过程(D)
创 □现况分析(4W1H+1B
层别)(M)
□对策方策创出(I)
□效果确认(I)
辅□QC 七工具
助□NQC
七工具
步 ■原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)	工□IE 工具
骤 □真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开	具□检定
源流「特性」与「要因」分析图
源流「特性」与「要因」分析图
源流Process
名稱
源流Process
名稱
源流Process
名稱
主題最終Pro
名稱
特
性
特
性
密
度
特
性
厚
度
設 備
噴咀孔
徑均一恒
溫度
速率
特
性
特
性
特
性
方 法
改创 QC STORY(DMAIC)记录表改 □题目、目标、过程(D)
改创 QC STORY(DMAIC)
记录表
改 □题目、目标、过程(D)
创 □现况分析(4W1H+1B
层别)(M)
□对策方策创出(I)
□效果确认(I)
辅□QC 七工具
助□NQC
七工具
步 ■原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)	工□IE 工具
骤 □真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开	具□检定
源流「特性」与「要因」分析图
源流Process
名稱
源流Process
名稱
源流Process
名稱
主題最終 Process 名稱
特	特	特	設 備	物 料
性	性	性
特	特	特
性	性	性	方 法	人
改创 QC STORY(DMAIC)	记录表
改 □题目、目标、过程(D)	□对策方策创出(I)	辅□QC 七工具
创 □现况分析(4W1H+1B 层别)(M)	□效果确认(I)
助□NQC 七工具
步 □原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)
6σ QIT 进行要点
工□IE 工具
骤 □真因证实(A)
骤 □真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开
具□检定
改创 QC STORY(DMAIC)
记录表
改 □题目、目标、过程(D)
创 □现况分析(4W1H+1B
层别)(M)
□对策方策创出(I)
□效果确认(I)
辅□QC 七工具
助□NQC
七工具
步 □原因分析(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □效果维持(C)	工□IE 工具
6σ QIT 进行要点
骤 
骤 ■真因证实(A)(异常、差异、短处、共同、差距) □残留问题,水平展开
具□检定
一、原明之差異真因:
有關設備5與設備4之C值依據K Base中之Q Story
摘要表確定為差異
2.位置別之真因証實(
(1)
二、Mask別差異真因証實	實驗法
t=3.28
d
0.5
1.0
□ 
(菠)
(菠)
差異原因
a  b
Mf
Md
X =1.21 X =1.08
a
                
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