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- 2023-04-23 发布于北京
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本申请提供一种导电膜及其制备方法,属于导电膜技术领域。导电膜的制备方法包括如下步骤:使用蒸发镀膜、水电镀或化学镀的方式在绝缘层的表面均形成金属工艺层,使用磁控溅射的方式在金属工艺层的背离绝缘层的表面形成金属过渡层,在金属过渡层的背离金属工艺层的表面形成金属功能层。此制备方法得到的导电膜,可以在金属导电层的厚度较厚的情况下,导电膜的导电性和致密性均较佳。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113990580 A
(43)申请公布日
2022.01.28
(21)申请号 20201
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