抛光流体收集设备及与其相关的基板抛光方法.pdfVIP

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  • 2023-04-23 发布于北京
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抛光流体收集设备及与其相关的基板抛光方法.pdf

本公开内容的实施方式大体提供用于收集及再利用抛光流体的设备及与该设备相关的方法。特别地,本文提供的设备和方法的特征为包括抛光流体收集系统,该抛光流体收集系统用于收集及再利用在电子装置制造工艺中的基板化学机械抛光(CMP)期间分配的抛光流体。在一个实施方式中,抛光流体捕集池组件包括捕集池,该捕集池经设定尺寸以围绕抛光台的至少一部分并与抛光台间隔开。该捕集池的特征为包括外壁、设置在外壁的径向内侧的内壁、和将内壁连接至外壁的基部部分。外壁、内壁和基部部分共同界定槽。内壁的面向径向内侧的表面由圆弧半径界

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113993661 A (43)申请公布日 2022.01.28 (21)申请号 201980097232.4 (51)Int.Cl.

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