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组合物及其用途和选择性蚀刻硅-锗材料的方法.pdfVIP

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  • 2023-04-25 发布于四川
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组合物及其用途和选择性蚀刻硅-锗材料的方法.pdf

    本发明涉及一种在含硅层，特别是包含a‑Si、SiOx、SiON、SiN或其组合的层存在下选择性蚀刻包含硅锗合金(SiGe)的层的组合物，该组合物包含：(a)氧化剂，(b)选自无机酸和有机酸的酸，(c)包含氟离子源的蚀刻剂，(d)聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)和(e)水。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114072482 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202080049504.6 J-P ·B ·林德纳　V ·博伊科　

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