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本发明涉及一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法和应用,所述表面增强拉曼散射基底包括依次层叠设置的光源层、半导体衬底层以及拉曼散射材料层。本发明在基底中引入原位光源层,实现拉曼散射的原位增强,能够提升基底的光利用率,表面增强效果更好,具有较高的稳定性、灵敏度和重现性,能够满足多种需求的拉曼散射器件,且制备工艺简单,成本低廉。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114695615 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202011593563.8
(22)申请日 2020.12.29
(71)申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿
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