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处理基板的装置、准备所述装置的方法及处理基板的方法.pdfVIP

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  • 2023-05-15 发布于四川
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处理基板的装置、准备所述装置的方法及处理基板的方法.pdf

    提供一种处理基板的装置，包含一腔体及一结构体。腔体具有一处理空间，在处理空间中用以进行在一基板上沉积一薄膜的一程序。结构体安装成将至少一表面曝露在处理空间，且在处理空间中在曝露在处理空间的表面上形成一涂覆层，涂覆层由在一末端形成有共价键及双键的至少一者的一聚合物所制成。因此，根据示例实施例的基板处理装置可限制或防止因沉积在腔体中的薄膜而导致颗粒产生及基板污染产生。而且，可延长清洁腔体及腔体中的结构体或部件的周期。因此，可增加产品生产率及装置操作效率。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114730700 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202080081414.5 (74)专利代理机构 北京信慧永光知识产权代理

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