第二章-迁移率测量-3-SCLC-2012.pdf

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第二章 有机半导体材料载流子迁移率测试方法 三、空间电荷(导致的)受限电流法(SCLC) Space-Charge-Limited-Current 3.1、器件结构器件结构 器件结构器件结构:: 单层有机(发光)二极管, 并加上直流偏压。 有机半导体厚度: 几十纳米几十纳米~几百纳米几百纳米。 电极电极11 电极电极22 有机半导体 3.2、载流子的产生 载流子的产生载流子的产生 ((注入注入):): 1、Thermoionic or Schottky emission 热离子发射或肖特基发射 在低偏低偏压下占主导。 22 、Fowller–Nordhdheiim Tunneliling ((隧穿隧穿)) 电极1 电极2 有机半导体 在高偏压下占主导。 载流子注入的种类载流子注入的种类: 由半导体的HOMO 、LUMO 及电极功函共同决定。 常常见电极的功电极的功函: Au: 5.1 eV, ITO: 4.8, Al: 4.28, Ag: 4.26, Mg: 3.66, Ca: 2.87, Ba: 2.7 典型聚合物的典型聚合物的HOMO 、LUMO : MEH-PPV :HOMO 5.1, LUMO 2.8 PFO :HOMO 5.8, LUMO 2.8 几种器件结构类型: 1) Au (+)/MEH-PPV/Au (-) hole dominated device 高势垒 LUMO 2.8 eV 电子注入存在高势垒 无空穴注入势垒 Au (+) 5.1 eV Au (-) HOMO 5.1 eV 2 ) ITO (+)/MEH-PPV/Au (-) hole dominated device 高势垒高势垒 LUMOLUMO 22.88 eVV 低空穴注入势垒低空穴注入势垒 电子注入存在高势垒电子注入存在高势垒 ITO (+) 4.8 eV Au (-) HOMO 5.1 eV 3 ) ITO (+)/MEH-PPV/Al (-) hole dominated device 高势垒高势垒 LUMOLUMO 22.88 eVV

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