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本发明涉及性能及处理量双方皆得以改善的基板清洗装置、研磨装置、抛光处理装置、基板处理装置及用于其中某一者的机械学习器、以及基板清洗方法。基板清洗装置(16)具备：清洗工具(77)，其对保持于基板保持部(71、72、73、74)的基板(W)进行清洗；表面性状测量装置(60)，其获取清洗工具(77)的表面数据；和控制部(30)，其根据表面数据来决定清洗工具(77)的更换时机。每当擦洗规定片数的基板(W)，表面性状测量装置(60)就在清洗工具(77)的至少两个测量点(PA、PB)获取清洗工具(77)的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114846581 A
(43)申请公布日 2022.08.02
(21)申请号 202080085194.3 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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