溅射镀膜操作流程.docVIP

JGP-560C双室磁控溅射堆积系统操作规范 系统的气路图如图: 一、先期准备： 翻开循环水（循环水能实时降温，主假如抽水泵能正常工作），翻开墙上电源，翻开总电源，翻开控制电源 注：循环水的有效降温相同是保持实验条件稳固和实验参数进行的有力保障。其主要影响设施是抽水泵。因此在确立水箱充有足够水的前提下还要保证泵的正常工作。 二、抽真空： 1.开机械泵开关； 2.开旁抽阀V1（V7），开复合真空计，对溅射真空室（进样 室）进行抽真空（粗抽真空）； 3.当气压低于20Pa时，关旁抽阀V1（V7）； 4.开电磁阀DF1（DF2），开闸板阀G2（G3），启动分子泵T1 T2）； 5.开电离真空计（细抽真空）。 注：真空地区可区分为五类： 粗真空地区×105Pa—×103Pa 低真空地区×103Pa—×10-1Pa 高真空地区×10-1Pa—×10-6Pa 超真空地区×10-6Pa—×10-12Pa 极高真空地区＜×10-12Pa 这类气体的量的变化也会对各种生产过程产生很大影响。对镀膜 过程也不例外。比如物质在真空中的沸点比在大气中的低，在真空条 件下能够降低物质大批蒸发所需的温度，因此在真空镀膜室内镀膜资料能够在较低的温度下大批蒸发。在低真空地区中氧气相应少了，物质被氧化的可能性大大的变小，因此真空镀膜时能够获得纯度较高的有适用价值的镀膜层。因此稳固的真空度能有效保证各实验参数的进行，保证镀膜质量。 三、装样 检查闸板阀G3能否封闭，确认G1，V7，V5的确封闭； 迟缓翻开放气阀V6，向进样室充气； 充气达成后，翻开带窗活开门，将放好样品的样品托一一放入样品库内（一次可搁置6个样品托）； 封闭放气阀V6，对样品室抽真空。 四、办理样品（进样室中，退火炉在上，反溅靶在下） 用磁力传达杆取下样品托，将样品托搁置在反溅靶表面； 将复合真空计由自动调为手动； 稍封闭闸板阀G3，翻开截止阀V5； 开流量计，预热3min； 开气瓶开关，调理流量阀MFC3，经过调理流量以及闸板阀开关控制真空到3~5Pa； 翻开RF电源，预热5min，调理功率对样品进行反溅冲洗； 封闭RF电源，关气瓶开关，封闭流量阀MFC3，封闭V5，翻开G3； 取下样品托，放入退火炉托座； 调理退火温度对样品热办理。 五、送样 当进样室真空度低于5*10-4Pa时，封闭G3，翻开G1； 取下样品托并旋转180度，送入溅射室，并交接到转盘上（可经过侧壁上的样品叉协助交接）； 抽出传达杆，封闭G1，对溅射室抽真空。 注： (1)采纳传达杆传递样品，能够保持真空卫生，第一是腔内气体 卫生。即腔内气体应当有足够的纯度和稳固的比率。其次是腔体卫生。 腔体应当保持相应的干净度。采纳传达杆能够防止尘埃、废金属屑等 进入腔体。只有保证了真空卫生才能保证镀膜的质量。 (2)基片应与靶材平行,由于在与靶材不一样的距离上金属蒸气的密 度、温度状况、磁力强度等镀膜条件是不相同的。假如不平行的话， 不单会使镀膜厚度不平均，也会使膜所受的应力不一致，有可能致使 开裂、翘曲或零落等附着强度问题。 (3)基片表面应干净，基片表面的干净与否会直接影响镀膜的平均 性、附着强度。严重时还会使镀膜开裂、翘曲或零落。以玻璃基片为 例，假如基片冲洗成效不达标，表面存有尘埃、油脂或油的薄层，那 么就会严重影响镀层的光学透射率、反射率、色彩平均性等基天性质。 六、溅射镀膜 稍封闭G2，封闭电离真空计； 2.迟缓翻开V4，过一段时间后按实验要求翻开V8，V9，V10； 翻开流量计，预热3min； 开气瓶开关，将流量计打到阀控档； 调理流量计以及闸板阀G2，控制压强至实验要求（如气压低于1*10-1Pa可翻开电离真空计检测压强）； 翻开直流或射频电源（射频电源需预热5min），调理功率开始溅射，可经过程序控制转盘以及挡板地点； 镀膜达成后，封闭直流或射频电源； 封闭气瓶开关，关流量计，关V8，V9，V10，关V4，翻开 G2； 取样与送样操作步骤相同。 实验注意事项： ①靶材质量应能足够保证镀膜质量。 ②基片应与所镀产品的镀膜表面平行。 ③产品表面在镀膜前应冲洗干净。 ④真空腔应经常洁净，保持真空环境的卫生。 ⑤稳固的真空度。 ⑥稳固的气体流量。 ⑦循环水能实时降温（主假如抽水泵能正常工作）。 ⑧腔内温度应自然冷却后才能够拿出产品。 ⑨操作人员应实时经过监督窗口察看真空腔内部工作状况，阳极 光芒应光亮，若惨淡（此时辉度指示灯一般会闪耀）应实时查找原由。 ⑩起落机在上涨到能够翻开密封盖时应实时停止。 各样开关、旋（按）钮使用完成后应实时封闭或恢复到初始状 态。 整理实验室，封闭空调解室内灯光，而且把门锁好。