一步合成铟基或镓基半导体材料的方法.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.26万字
  • 约 10页
  • 2023-05-26 发布于四川
  • 举报

一步合成铟基或镓基半导体材料的方法.pdf

本发明属于半导体材料制备领域,公开了一步合成铟基或镓基半导体材料的方法。该方法通过火焰合成法完成,包括:将铟源或镓源作为前驱体,用载气将前驱体的蒸汽带入燃烧器混合室中;将燃气和氧化性气体通入燃烧器混合室中,与前驱体的蒸汽混合形成预混气;预混气在燃烧器的上表面被点燃,形成平面火焰,预混气在平面火焰中反应形成铟基或镓基半导体材料。本发明的工序简单、耗时短、生产效率高,易于工业化大规模生产。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115974132 A (43)申请公布日 2023.04.18 (21)申请号 202211654356.8 C23C 16/34 (2006.01) (22)申请日 2022.12.

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档