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本发明公开了一种真空炉装置，属于机械设计领域。真空炉装置包括：真空腔机构、上盖、移载结构和烤炉；烤炉为双通道独立工作结构，烤炉用于产能保证和不停机工作，上盖位于烤炉上方，烤炉内部充满N2；石墨舟处产品从入料口进入，移载结构用于将石墨舟处产品移载到烤炉的预热区，经过预热区再移载到烤炉的加热区；真空腔机构用于石墨舟处产品移载到加热区时进行下压工作与上升工作，移载结构还用于将石墨舟处产品移载到烤炉的冷却区，最后将石墨舟处产品移载到出料口，依次循环。本发明通过一种真空炉装置能够实现一种稳定有效的焊接空洞
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112484507 A
(43)申请公布日 2021.03.12
(21)申请号 202011459763.4
(22)申请日 2020.12.11
(71)申请人 无锡昌鼎电子有限公司
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