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本发明涉及半导体技术领域,提出一种半导体结构,该半导体结构包括:半导体衬底、掺杂阱、第一绝缘层、电容结构、导线、探针垫。掺杂阱与所述半导体衬底具有不同的掺杂形态,且形成于所述半导体衬底内,以使所述掺杂阱和所述半导体衬底在堆叠方向上形成PN结;电容结构形成于所述半导体衬底上,且位于所述掺杂阱以外位置;第一绝缘层设置于所述掺杂阱上;探针垫设置于所述第一绝缘层背离所述掺杂阱的一侧;导线连接于所述探针垫与所述电容结构的第一电极之间。本公开提供的半导体结构可以被准确、方便的测量电容结构的电容。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112542518 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20191
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