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本发明公开了一种金属件表面处理用的喷涂工艺，包括以下步骤：步骤一，表面激发处理：将金属件先置于电晕场内处理10‑15min,电晕场场强为220‑250KV/m，然后采用等离子体处理，处理结束，即可；步骤二，活性点位布置。本发明活性介质点分布在金属件表面采用脉冲离子束进行辐照，激发稀土氧化镧的活性，促进纳米二氧化硅在金属件表面原位生长，从而形成大量均匀的微小凹坑，这样更有利于后续喷涂层的吸附粘接，提高了喷涂层的吸附强度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112676131 A
(43)申请公布日 2021.04.20
(21)申请号 202011515502.X
(22)申请日 2020.12.21
(71)申请人 衢州
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