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本发明公开了一种改善化合物半导体器件光刻性能的版图设计方法，在光刻版图上的低分布密度的原始设计图形的外侧增加封闭的虚拟线框，所述虚拟线框的线宽尺寸小于光刻机的曝光极限线宽，从而在圆片表面不形成真实的虚拟线框图形。本发明通过引入虚拟线框，可有效改善源、漏、栅、微带线等图形的线宽尺寸、微观形貌和圆片内均一性，提高小尺寸线宽的成品率、稳定性，从而改善器件直流和微波性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112668127 A
(43)申请公布日 2021.04.16
(21)申请号 202110061500.6
(22)申请日 2021.01.18
(71)申请人 中国
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