光刻胶用成膜树脂的合成及性能研究.docx

光刻胶用成膜树脂的合成及性能研究 一、引言 在光子集成电路、MEMS、传感器等微电子领域，光刻技术已成为制备微小结构很重要的工艺手段。光刻工艺中的胶材料即光刻胶，是传递图形信息的媒介，其表面的图形信息在后续工艺中将被转移到硅片表面。本文将重点研究光刻胶的成膜树脂的合成及性能。 二、成膜树脂的合成 1.合成原理 具备发酵、脱水、聚合等特性的氢氧化铝为原料，结合尺寸分子的大小、CUT值、分子形状及聚合度等因素，实现了传统意义上的合成、改性、配制等一系列工艺，最终得到了以聚氧化铝为主成分、含有其他有机成分的高分子成膜树脂。 2.材料与仪器 （1）······氢氧化铝、乙醇、甲醇、二甲基亚砜； （2）······无水硅酸钙、脱色水、搅拌器、旋转蒸发器、层析仪、红外分析仪等。 3.实验过程 （1）······制备精细氧化铝的前驱体 ①将甲醇溶液倒入有气密性的托盘中。 ②当甲醇极度冷却时，将氢氧化铝粉末加入甲醇中； ③加入甲醇的速度应缓慢，以免将铝粉引燃。 ④将加入的甲醇置于恰当的环境条件中，使用双循环马达搅拌，筛选后得到氧化铝前驱体。 （2）······制备聚氧化铝 ①将所得前驱体置于旋转蒸发器中，用25000鲍耳钠处理现象。 ②用搅拌器均匀混合前驱体和亚甲基碳酰胺。 ③将混合液置于高真空环境中，使其聚合。 ④得到聚氧化铝的毛细管图形，得到聚铝模式。 （3）······成膜树脂配制 将聚氧化