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护膜、半导体装置及其制造方法.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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护膜、半导体装置及其制造方法.pdf

    揭示一种用于极紫外线微影系统的坚固、高透射的护膜、半导体装置及其制造方法。在一个实施例中，本揭示内容提供一种护膜，包括膜状物以及支持膜状物的框架。膜状物可由透明的碳基膜及透明的硅基膜中的至少一者形成。透明的碳基膜及透明的硅基膜中的至少一者可进一步涂布保护壳。框架可包括至少一孔隙以允许空气流经过护膜的一部分。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112748635 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202011057752.3 G03F 1/62 (2012.01)

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