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使用正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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使用正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制.pdf

    一种设备(300)可以包括一个或更多个存储器(330)和一个或更多个处理器(320)，该一个或更多个处理器通信地耦合到一个或更多个存储器(330)，以接收设计信息，其中设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；接收或获得标识关于一次或更多次运行的参数和与一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；基于历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；以及使得一次或更多次运行基于层信息被执行。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112752865 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 201880098099.X 尼尔 ·平克顿　 (22)申请日 2018.09

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