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金属掩膜材料及其制造方法、金属掩膜.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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金属掩膜材料及其制造方法、金属掩膜.pdf

    本发明提供使蚀刻导致的翘曲量减小的OLED用的金属掩膜材料及其制造方法和金属掩膜。本发明的金属掩膜材料及金属掩膜的特征在于，以质量％计，含有Ni：35.0～37.0％、Co；0.00～0.50％，剩余部分由Fe及杂质构成；板厚为5.00μm以上且50.00μm以下，将一边为100mm的正方形的上述金属掩膜材料的试样从其单侧进行蚀刻，到该试样的板厚变成2/5为止，将蚀刻后的上述试样载置在平台上时的、上述试样的4角的浮起量中的作为最大值的翘曲量为5.0mm以下。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112752860 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 201980063786.2 (71)申请人 日铁化学材料株式会社

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