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- 2023-06-05 发布于四川
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公开一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的实施例的基板处理装置的特征在于,包括:基板支承单元;药液供应单元,用于将药液供应于被所述基板支承单元支承的基板上面;激光照射单元,用于将激光照射于基板而加热基板;以及控制部,控制成激光照射单元照射激光脉冲,从而反复加热及冷却基板。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112750721 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202011109697.8
(22)申请日 2020.10.16
(30)优先权数据
10-2019-0
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