1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

用于多电子束系统的偏转阵列设备.pdfVIP

  • 4
  • 0
  • 约4.47万字
  • 约 38页
  • 2023-06-06 发布于四川
  • 举报

用于多电子束系统的偏转阵列设备.pdf

    本发明提供一种利用微透镜阵列MLA的光学特性化系统。所述系统可包含电子源及包含微偏转阵列MDA的MLA。所述MDA可包含绝缘体衬底及安置于所述绝缘体衬底上的多个六极静电偏转器。所述MDA可进一步包含多个电压连接线，所述多个电压连接线经配置以将所述多个六极静电偏转器电耦合到一或多个电压源。所述MDA可经配置以将来自所述电子源的初级电子束分裂成多个初级电子子束。所述系统可经配置以将所述多个初级电子子束聚焦于晶片平面处。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112805804 B (45)授权公告日 2022.06.14 (21)申请号 201980066267.1 (72)发明人 姜辛容　C ·西尔斯　 (22)申请日 2019.10.0

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >