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一种解决陶瓷-铁氧体复合基片抛光后表面出现台阶的方法.pdfVIP

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  • 2023-06-07 发布于四川
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一种解决陶瓷-铁氧体复合基片抛光后表面出现台阶的方法.pdf

    本发明公开了一种解决陶瓷‑铁氧体复合基片抛光后表面出现台阶的方法，属于微波技术和精密加工领域，所述方法为先采用磨盘配合氧化铝研磨液对陶瓷‑铁氧体复合基片进行第一次加工，然后采用聚氨酯配合氧化铝抛光液对陶瓷‑铁氧体复合基片进行第二次加工，并采用与基片目标厚度一致的不锈钢游星轮作为夹具；本发明获得的基片各部分厚度一致性较好，能将厚度差降低至3μm以下，表面没有明显的台阶，且加工后的复合基片表面粗糙度小于15nm；采用此方案加工的基片，能够保证电路连续，不会在台阶处产生薄弱点，并且，基片表面更平整有利

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115722983 A (43)申请公布日 2023.03.03 (21)申请号 202211381662.9 B24B 37/08 (2012.01) (22)申请日 2022.11.

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