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本发明涉及泛半导体技术领域,提供一种半导体制程废气处理设备,包括:处理容器、第一进气管和第二进气管,处理容器限制出处理腔;第一进气管与处理腔连通并用于向处理腔内通入待处理气体;第二进气管套设于第一进气管的外侧并连接于处理容器,第二进气管设置气体进口,第二进气管与第一进气管之间形成进气夹层,进气夹层与处理腔连通以用于向处理腔通入第一辅助气体,第一辅助气体的温度与流速中的至少一个高于待处理气体。本发明提出的半导体制程废气处理设备,解决第一进气管的出口端粉尘堆积而易造成堵塞的问题,延长清理保养周期,减
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112915718 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202110099426.7 (51)Int.Cl.
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