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本发明公开一种超薄晶圆正面切割工艺,包括以下步骤:S1、先完成晶圆高温制程,再将晶圆正面与玻璃载板键合,然后做背面晶圆制程;S2、将晶圆背面与玻璃载板键合,然后将正面玻璃载板解键合,除去粘着层;S3、完成正面晶圆制程;S4、通过电浆蚀刻晶圆正面,利用金属和Si的蚀刻速率不同,蚀刻除去切割道处的Si直至背面金属处;S5、于晶圆正面进行激光切割,完成超薄晶圆的切割。本发明利用电浆对Si片和金属的蚀刻速率不同,在晶圆正面蚀刻切割道至裸露出背面金属,再通过激光切割将背面金属切断,从而完成超薄金属的切割,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113725160 A
(43)申请公布日 2021.11.30
(21)申请号 202111021765.X
(22)申请日 2021.09.01
(71)申请人 浙江
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