薄膜的屋里气相沉积演示文稿.pptVIP

薄膜的屋里气相沉积演示文稿 当前第1页\共有25页\编于星期六\10点 （优选）薄膜的屋里气相沉积 当前第2页\共有25页\编于星期六\10点 溅射镀膜的特点 （1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实 现溅射 （2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好 （3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好 （4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获得厚度均匀的薄膜 当前第3页\共有25页\编于星期六\10点 一、辉光放电的物理基础 靶材是需要被溅射的物质，作为 阴极，相对作为阳极并接地的真空室处于一定的负电位 辉光放电过程中，将产生Ar离子，阴极材料原子，二次电子，光子等 当前第4页\共有25页\编于星期六\10点 直流溅射趁机装置的制图 当前第5页\共有25页\编于星期六\10点 4.2 物质的溅射现象 合金的溅射和沉积： 溅射法的优点所制备的薄膜的化学成分与靶材基本一致。 自动补偿效应：溅射产额高的物质已经贫化，溅射速率下降，而溅射产额低的物质得到富集，溅射速率上升。 当前第6页\共有25页\编于星期六\10点 一、直流溅射装置及特性 溅射气压1.3-13Pa，太低和太高都不利于薄膜的形成。 阴-阳极距离适中，大约为阴极暗区的2倍 溅射电压1-5KV。 靶材必须为金属。 为