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本发明涉及形状记忆高分子材料技术领域，具体涉及一种形状记忆尼龙材料及其制备方法。所述的形状记忆尼龙材料，以含双键的尼龙为基体，经过辐照交联，即得到形状记忆尼龙材料；其中尼龙基体由富马酸摩尔含量2‑10%的二元酸混合物和二元胺经成盐制备、预聚合、终缩聚得到，辐照交联采用钴射线辐照。本发明制备的形状记忆尼龙材料，既具备优良的综合性能，又具备良好的形状记忆效应，相比于传统形状记忆高分子材料，同时还具备耐高低温，优异的化学稳定性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113789052 B
(45)授权公告日 2022.03.08
(21)申请号 202111344067.3 C08J 3/24 (2006.01)
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