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- 2023-07-07 发布于四川
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本发明的课题在于，提供特征在于，高低基板上的平坦化性能优异、对微细孔图案的埋入性能良好并且成膜后的晶圆表面被平坦化的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物。上述问题可以通过下述组合物解决。一种光刻用下层膜形成用组合物，其含有：a：下述式(1‑0)所示的具有芳烷基结构的低聚物、和b：溶剂。(式中，Ar0表示亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚菲基、亚芘基、亚芴基、亚联苯基、二苯基亚甲基或亚三联苯基，R0为Ar0的取代基，各自独立地任选为相同的基团或不同的基团，表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113874416 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202080038861.2 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
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