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多台基板处理系统.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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多台基板处理系统.pdf

    真空处理模块具有预成型的顶板和/或成型为向外凸起的底部。顶板和/或处理模块的形状抵消了在处理模块中处理基板时由真空压力和/或高温引起的变形。处理模块具有可通向传送室的侧面和与可打开侧面相对的侧面。凸起可以是不对称的，凸起的顶峰在顶板上偏心并且更靠近相对的侧面而不是可打开侧面。刚性结构可以安装在顶板上以调节顶板中的凸起的大小。梁可以是刚性梁，其具有可调节的提升机构，以提升顶板的附接部分。处理模块可以容纳多个基板以进行处理，每个基板在处理模块中占用专用的台。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113862648 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202110664618.8 C23C 16/34 (2006.01)

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